[发明专利]基底上带纹理的膜在审
| 申请号： | 201380080391.6 | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN105658395A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 黄仲弘;吴冠霆 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | B29C43/18 | 分类号： | B29C43/18;B29C43/52 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 周艳玲;王琦 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述一种模制方法，其中膜和基底被定位在第一模具部件和第二模具部件之间。所述第一模具部件挤压抵靠所述膜并且所述第二模具部件挤压抵靠所述基底，以使所述膜和所述基底形成模制产品。所述挤压在所述膜的表面中形成纹理。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 纹理 | ||
【主权项】：
一种模制方法，包括：将膜和基底定位在第一模具部件和第二模具部件之间；使所述第一模具部件挤压抵靠所述膜并且使所述第二模具部件挤压抵靠所述基底，以将所述膜和所述基底形成为模制产品，其中所述挤压在所述膜的表面中形成纹理。
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