[发明专利]用于制备石墨烯纳米带的聚合物前体和用于制备它们的合适低聚亚苯基单体在审

专利信息
申请号: 201380071107.9 申请日: 2013-11-12
公开(公告)号: CN104936932A 公开(公告)日: 2015-09-23
发明(设计)人: K·米伦;X·冯;J·蔡;P·吕菲克斯;R·法泽尔;成田明光 申请(专利权)人: 巴斯夫欧洲公司;马克思—普朗克科学促进协会公司
主分类号: C07C15/14 分类号: C07C15/14;C07C15/12;C07C15/20;C07C15/30;C07C25/18;C07C309/66;C07C245/20;C01B31/04;C08G61/10
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 张蓉珺;林柏楠
地址: 德国路*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及通式I的低聚亚苯基单体,其中R1为H、卤素、-OH、-NH2、-CN、-NO2,或者线性或支化、饱和或不饱和C1-C40烃残基,其可被卤素(F、Cl、Br、I)、-OH、-NH2、-CN和/或-NO2取代1-5倍,且其中一个或多个CH2-基团可被-O-、-S-、-C(O)O-、-O-C(O)-、-C(O)-、-NH-或–NR3-替代,其中R3为任选取代的C1-C40烃残基,或者任选取代的芳基、烷基芳基、烷氧基芳基、烷酰基或芳酰基残基;R2a和R2b为H,或者任选一对或多对相邻R2a/R2b连接形成六元碳环中的单键;m为0-3的整数;n为0或1;且X为卤素或三氟甲基磺酸盐,且Y为H;或者X为H,且Y为卤素或三氟甲基磺酸盐。本发明进一步涉及聚合物前体以及由低聚亚苯基单体和聚合物前体制备石墨烯纳米带的方法。
搜索关键词: 用于 制备 石墨 纳米 聚合物 它们 合适 低聚亚 苯基 单体
【主权项】:
通式I的低聚亚苯基单体:其中:R1为H、卤素、‑OH、‑NH2、‑CN、‑NO2,或者线性或支化、饱和或不饱和C1‑C40烃残基,其可被卤素(F、Cl、Br、I)、‑OH、‑NH2、‑CN和/或‑NO2取代1‑5倍,且其中一个或多个CH2‑基团可被‑O‑、‑S‑、‑C(O)O‑、‑O‑C(O)‑、‑C(O)‑、‑NH‑或–NR3‑替代,其中R3为任选取代的C1‑C40烃残基,或者任选取代的芳基、烷基芳基、烷氧基芳基、烷酰基或芳酰基残基;R2a和R2b为H,或者任选一对或多对相邻R2a/R2b连接形成六元碳环中的单键;m为0‑3的整数;n为0或1;且X为卤素或三氟甲基磺酸盐,且Y为H;或者X为H,且Y为卤素或三氟甲基磺酸盐。
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