[发明专利]保护膜形成用膜有效
| 申请号： | 201380064452.X | 申请日： | 2013-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN104837942A | 公开（公告）日： | 2015-08-12 |
| 发明（设计）人： | 佐伯尚哉;山本大辅;高野健 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/00 | 分类号： | C09J7/00;H01L21/301 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王利波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在固化后容易将临时固定在支撑体上的保护膜形成用膜从支撑体上剥离、且与芯片的粘接强度优异的保护膜形成用膜。本发明的保护膜形成用膜是具有第一表面和第二表面的固化性的保护膜形成用膜，其中，固化后的第一表面对硅晶片的粘接力高于固化后的第二表面对硅晶片的粘接力。 | ||
| 搜索关键词： | 保护膜 形成 | ||
【主权项】：
一种保护膜形成用膜，其是具有第一表面和第二表面的固化性的保护膜形成用膜，其中，固化后的第一表面对硅晶片的粘接力高于固化后的第二表面对硅晶片的粘接力。
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