[发明专利]玻璃基板的清洗方法在审
| 申请号： | 201380063534.2 | 申请日： | 2013-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN104853853A | 公开（公告）日： | 2015-08-19 |
| 发明（设计）人： | 青野信幸;长沼纯;宫本定治 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;C11D7/04;C11D7/32;C11D17/08;G02F1/13;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种抑制在碱清洗中的玻璃基板表面粗糙度变差、可进一步提高清洗性的玻璃基板的清洗方法。在一种或数种实施方式中，本发明的玻璃基板的清洗方法包括使被清洗玻璃基板与清洗剂组合物接触，所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱，相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，所述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板，清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种玻璃硬盘基板的制造方法，其包括以下工序(1)及(2)：(1)使用研磨液组合物对被研磨玻璃基板进行研磨的工序，以及(2)使用清洗剂组合物对工序(1)中获得的基板进行清洗的工序，其中，所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱，相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，所述被研磨玻璃基板为结晶化玻璃基板，清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于花王株式会社，未经花王株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380063534.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：材料成形装置
- 下一篇：含有载持环糊精的聚合物的有机氟类化合物吸附剂
