[发明专利]玻璃基板的清洗方法

权利要求书

1.一种玻璃硬盘基板的制造方法，其包括以下工序(1)及(2)：

(1)使用研磨液组合物对被研磨玻璃基板进行研磨的工序，以及

(2)使用清洗剂组合物对工序(1)中获得的基板进行清洗的工序，其中，

所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱，

相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，

所述被研磨玻璃基板为结晶化玻璃基板，

清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。

2.根据权利要求1所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，所述研磨液组合物为含有二氧化硅粒子的研磨液组合物。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，

所述清洗剂组合物含有源自无机碱的碱金属，

清洗剂组合物中的所述胺与碱金属离子的质量比、即胺的含量/碱金属离子的含量为0.50以上且12.00以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，

所述胺为选自通式(I)的化合物、烷醇胺及具有哌嗪环的化合物中的1种以上，

式(I)中，x、y及z分别表示0以上且4以下的整数，满足1≦x+y+z≦4。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，

所述胺为选自四亚乙基五胺、五亚乙基六胺、单乙醇胺、2-[(2-氨基乙基)氨基]乙醇及1-(2-羟基乙基)哌嗪中的1种以上。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，

所述清洗剂组合物还含有下述通式(II)表示的非离子活性剂，

R-O-(EO)o(PO)p-H   (II)

式(II)中，R为碳数6以上且16以下的直链或支链烷基，o为EO的平均加成摩尔数，p为PO的平均加成摩尔数，o为0以上且20以下的数，p为0以上且5以下的数。

7.根据权利要求6所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，

相对于水以外的成分的总质量，所述非离子活性剂的含量为1.00质量％以上且5.00质量％以下。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，

所述清洗剂组合物还含有选自对甲苯磺酸、二甲基苯磺酸之类的有机磺酸，2-乙基己酸及它们的盐中的1种以上的助溶剂。

9.根据权利要求8所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，

相对于水以外的成分的总质量，所述助溶剂的含量为20.00质量％以上且62.00质量％以下。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，所述清洗剂组合物还含有阴离子聚合物。

11.根据权利要求10所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，

相对于水以外的成分的总质量，所述阴离子聚合物的含量为2.50质量％以上且7.50质量％以下。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，所述清洗剂组合物还含有螯合剂。

13.根据权利要求12所述的玻璃硬盘基板的制造方法，其中，

相对于水以外的成分的总质量，所述螯合剂的含量为3.80质量％以上且10.60质量％以下。

14.根据权利要求1～13中任一项所述的玻璃硬盘基板的清洗方法，其包括对水的含量为60.00质量％以上且95.00质量％以下的所述清洗剂组合物的浓缩液进行稀释。

15.一种玻璃基板的清洗方法，其包括使被清洗玻璃基板与清洗剂组合物接触，其中，

所述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺及无机碱，

相对于所述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，所述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下，

所述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板，

清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。