[发明专利]玻璃基板的清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及玻璃基板的清洗方法以及玻璃硬盘基板的制造方法。

背景技术

近年来，个人计算机或各种电子设备逐步处理动画或音频等较大的数据，因此需要大容量的信息记录装置。其结果，信息记录媒体对高记录密度化的要求逐年提升。为了应对此种情况，硬盘采用垂直磁记录方式，从而促进了量产化。在该垂直磁记录方式中，与现在的基板相比，信息记录媒体用基板(以下也称为“硬盘基板”)对基板要求更高等级的耐热性、表面平滑性。此外，现在更重要的是具有：用以减轻对主轴马达的负担的低比重化、用以防止盘片损坏的高机械强度以及可耐受掉落时对头部的冲击的高破坏韧性。

作为信息记录媒体用基板中使用的材料，有铝合金、玻璃等。玻璃与铝合金相比维氏硬度较高、表面平滑性较高，就此方面而言较有优势，现在较多地用于假定动态使用的用途。

并且，在作为信息记录媒体用基板的玻璃中，结晶化玻璃在如下方面具有优异的特性：耐热性优异、耐冲击特性较高而掉落强度优异、由于高刚性而耐擦伤且不易使头部损坏、高旋转时基板不易变形等。由于此种特性，结晶化玻璃基板是有望用作高记录密度化的信息记录媒体的材料。

日本特开2007-223884号公报中公开：将研磨后的表面粗糙度设为Ra1、将研磨加工后的经由酸清洗和/或碱清洗引起的表面粗糙度设为Ra2时，表面粗糙度变化率(|Ra2－Ra1|/Ra1)的值低于0.62的无机组合物。并且，公开了无机组合物为结晶化玻璃，且用作磁盘制造用基板。在实施例中公开有利用氢氟酸进行的清洗。

此外，在日本特开2010-257510号公报中公开有具有Ni-P层的硬盘基板用清洗剂组合物。该清洗剂组合物含有胺及碱。日本特开2012-107226号公报中公开有玻璃硬盘基板的制造方法。该制造方法包括：使用含有分子内具有2～10个氮原子的多元胺化合物的、pH值为1.0～4.2的研磨液组合物对被研磨玻璃基板进行研磨的工序；及使用pH值为8.0～13.0的清洗剂组合物进行清洗的工序。在该制造方法中公开了在碱清洗工序中抑制表面粗糙度变差。日本特开2009-206481号公报中公开有电子材料用(玻璃用)清洗剂。该清洗剂含有阴离子性表面活性剂、有机溶剂以及碱成分。且公开利用该清洗剂，可在不损害表面平坦性的条件下实现优异的微粒去除性。作为该碱性成分，可列举：碳数1～36的脂肪胺、无机碱、碳数1～23的烷醇胺以及碳数4～10的脒化合物。

发明内容

发明要解决的问题

从研磨粒子等微粒的清洗的观点来看，玻璃基板的清洗期望在碱性条件下进行清洗。然而，若在碱性条件下对玻璃基板进行清洗，则存在玻璃基板的表面被蚀刻从而表面平滑性降低的问题。进而，结晶化玻璃尤其是硬盘基板用的结晶化玻璃中除结晶部分以外，也存在非晶部分，并非均匀的材料。因此，在清洗基板时，结晶部分与非晶部分在碱中清洗的蚀刻性(溶解性)不同，因此更加难以在不使表面粗糙度变差的条件下进行清洗。

因此，在本发明的一个实施方式中，提供一种结晶化玻璃基板的清洗方法，其可以抑制在碱清洗、特别是在对残存的二氧化硅粒子等研磨粒子的微粒清洗时的结晶化玻璃基板的表面粗糙度变差，可进一步提高清洗性。

解决问题的技术手段

在本发明的一个实施方式涉及一种玻璃基板的清洗方法，其包括使被清洗玻璃基板与清洗剂组合物接触(以下也称为“本发明的玻璃基板的清洗方法”)。在该实施方式中，所述清洗剂组合物是含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱的清洗剂组合物(以下也称为“本发明的清洗剂组合物”)。相对于上述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，上述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下。上述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板。此外，清洗时的清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。

本发明的另一个实施方式涉及一种包括以下工序(1)及(2)的玻璃硬盘基板的制造方法。

(1)使用研磨液组合物对被研磨玻璃基板进行研磨的工序。

(2)使用清洗剂组合物对工序(1)中获得的基板进行清洗的工序。

在该实施方式中，上述清洗剂组合物含有包含1个以上且10个以下氮原子的胺以及无机碱。相对于上述清洗剂组合物的水以外的成分的总质量，上述胺的含量为5.00质量％以上且70.00质量％以下。上述被清洗玻璃基板为结晶化玻璃基板。此外，清洗时之清洗剂组合物的pH值为9.00以上且11.50以下。

发明效果