[发明专利]用于在衬底上进行垂直金属电流沉积的装置有效
申请号: | 201380062928.6 | 申请日: | 2013-12-03 |
公开(公告)号: | CN104937147A | 公开(公告)日: | 2015-09-23 |
发明(设计)人: | 瑞·温霍尔德;费迪南多·温诺 | 申请(专利权)人: | 德国艾托特克公司 |
主分类号: | C25D17/00 | 分类号: | C25D17/00;C25D17/08;C25D17/12 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 林斯凯 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于在衬底上进行垂直金属、优选地为铜电流沉积的装置,其中所述装置包括彼此平行地以垂直方式布置的至少第一装置元件及第二装置元件,其中第一装置元件包括具有多个贯通导管的至少第一阳极元件及具有多个贯通导管的至少第一载体元件,其中所述至少第一阳极元件与所述至少第一载体元件彼此牢固地连接;且其中第二装置元件包括适于接纳至少第一待处理衬底的至少第一衬底固持器,其中所述至少第一衬底固持器在接纳所述至少第一待处理衬底之后沿着其外框架至少部分地包围所述至少第一待处理衬底;且其中至少第一装置元件的第一阳极元件与第二装置元件的至少第一衬底固持器之间的距离介于从2mm到15mm的范围内。此外,本发明一般来说针对于一种用于使用此装置在衬底上进行垂直金属电流沉积的方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 衬底 进行 垂直 金属 电流 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种用于在衬底上进行垂直金属、优选地为铜电流沉积的装置,其特征在于所述装置包括彼此平行地以垂直方式布置的至少第一装置元件及第二装置元件,其中所述第一装置元件包括具有多个贯通导管的至少第一阳极元件及具有多个贯通导管的至少第一载体元件,其中所述至少第一阳极元件与所述至少第一载体元件彼此牢固地连接;且其中所述第二装置元件包括适于接纳至少第一待处理衬底的至少第一衬底固持器,其中所述至少第一衬底固持器在接纳所述至少第一待处理衬底之后沿着其外框架至少部分地包围所述至少第一待处理衬底;且其中所述至少第一装置元件的所述第一阳极元件与所述第二装置元件的所述至少第一衬底固持器之间的距离介于从2mm到15mm的范围内。
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