[发明专利]共聚物、光学各向异性体和高分子取向膜

摘要

本发明为分子内具有下述重复单元（I）和（II）且重复单元（I）与重复单元（II）的存在比率分别为5~90摩尔%、95~10摩尔%的共聚物，该共聚物的以二氯甲烷作为溶剂且浓度为0.5g/dl的溶液的20℃下的还原粘度[ηsp/c]为0.55~1.55dl/g；包含该共聚物的一种以上、或者前述共聚物的一种以上与其它高分子的混合物的光学各向异性体：以及，将膜状光学各向异性体拉伸而成的高分子取向膜。

主权项

光学各向异性体，其包含下述共聚物的一种或两种以上、或者下述共聚物的一种或两种以上与其它高分子的混合物，所述共聚物为如下共聚物：其在分子内具有下述式(I)所示的重复单元(I)和下述式(II)所示的重复单元(II)，[化1]式(I)中，Y¹表示化学性单键、‑C(＝O)‑、或者‑O‑C(＝O)‑，A¹表示任选具有取代基的三价芳香族基团，A^x表示碳原子数2～30的芳香族杂环基，A^y表示氢原子、任选具有取代基的碳原子数1～6的烷基、或者具有选自芳香族烃环和芳香族杂环中的至少一个芳香环且碳原子数2～30的有机基团，所述A^x和A^y所具有的芳香环任选具有取代基，另外，所述A^x与A^y可以一同形成环，Q¹表示氢原子、或者任选具有取代基的碳原子数1～6的烷基；[化2]式(II)中，Y²表示化学性单键、‑C(＝O)‑、或者‑O‑C(＝O)，A²表示任选具有取代基的萘二基、或者下述式(III)所示的基团，[化3]式(III)中，R¹～R⁸各自独立地表示氢原子、卤素原子、或者碳原子数1～6的烃基，T表示下述(T‑1)～(T‑3)所示的任意基团，[化4]式(T‑1)～(T‑3)中，R⁹、R¹⁰各自独立地表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的卤代烷基、或者任选具有取代基的碳原子数6～20的芳基，所述共聚物中，所述重复单元(I)的存在比率相对于全部重复单元为5～90摩尔％，所述重复单元(II)的存在比率相对于全部重复单元为95～10摩尔％，所述共聚物以二氯甲烷作为溶剂且浓度为0.5g/dl的溶液的20℃下的还原粘度[ηsp/c]为0.3～2.0dl/g。