[发明专利]共聚物、光学各向异性体和高分子取向膜有效
申请号: | 201380052137.5 | 申请日: | 2013-10-04 |
公开(公告)号: | CN104684964B | 公开(公告)日: | 2016-11-02 |
发明(设计)人: | 坂本圭 | 申请(专利权)人: | 日本瑞翁株式会社 |
主分类号: | C08G64/12 | 分类号: | C08G64/12;G02B5/30;G02F1/13363 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 袁波;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 共聚物 光学 各向异性 高分子 取向 | ||
1.共聚物,其特征在于,分子内具有下述式(I)所示的重复单元(I)和下述式(II)所示的重复单元(II),
[化1]
式(I)中,Y1表示化学性单键、-C(=O)-、或者-O-C(=O)-,
A1表示任选具有取代基的三价芳香族基团,
Ax表示具有选自芳香族烃环和芳香族杂环中的至少一个芳香环且碳原子数2~30的有机基团,
Ay表示氢原子、任选具有取代基的碳原子数1~6的烷基、或者具有选自芳香族烃环和芳香族杂环中的至少一个芳香环且碳原子数2~30的有机基团,
所述Ax和Ay所具有的芳香环任选具有取代基,
另外,所述Ax与Ay可以一同形成环,
Q1表示氢原子、或者任选具有取代基的碳原子数1~6的烷基;
[化2]
式(II)中,Y2表示化学性单键、-C(=O)-、或者-O-C(=O),
A2表示任选具有取代基的萘二基、或者下述式(III)所示的基团,
[化3]
式(III)中,R1~R8各自独立地表示氢原子、卤素原子、或者碳原子数1~6的烃基,T表示下述(T-1)~(T-3)所示的任意基团,
[化4]
式(T-1)~(T-3)中,R9、R10各自独立地表示氢原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的卤代烷基、或者任选具有取代基的碳原子数6~20的芳基,
所述共聚物中,所述重复单元(I)的存在比率相对于全部重复单元为5~90摩尔%,所述重复单元(II)的存在比率相对于全部重复单元为95~10摩尔%,
以二氯甲烷作为溶剂且浓度为0.5g/dl的溶液的20℃下的还原粘度[ηsp/c]为0.3~2.0dl/g。
2.权利要求1所述的共聚物,其中,在所述重复单元(I)中,A1为三价的苯环基或萘环基。
3.光学各向异性体,其包含权利要求1或2所述的共聚物的一种或两种以上、或者权利要求1或2所述的共聚物的一种或两种以上与其它高分子的混合物。
4.权利要求3所述的光学各向异性体,其为膜状物。
5.高分子取向膜,其是将权利要求4所述的膜状光学各向异性体拉伸而成的。
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