[发明专利]导电图案的制造方法有效
| 申请号： | 201380051742.0 | 申请日： | 2013-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN104685976B | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 田边美晴;井口雄一朗;草野一孝 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06;G03F7/20;G06F3/041;H01B13/00;H05K3/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 高旭轶;刘力 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供如下导电图案的制造方法，该方法能够获得导电性良好的导电图案、能够显著提高生产效率而无需伴随高温且长时间的加热处理。本发明提供导电图案的制造方法，其具备如下曝光工序：用具有广谱的光对包含导电性颗粒A和有机化合物B的基板上的膜或图案进行曝光，从而得到导电膜或导电图案。 | ||
| 搜索关键词： | 导电 图案 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.导电图案的制造方法，其具备如下曝光工序：用具有广谱的光对包含导电性颗粒A、作为具有聚合性不饱和双键的化合物的有机化合物B和光聚合引发剂C的基板上的膜或图案进行曝光，从而得到导电膜或导电图案，其特征在于，通过下述工序1或工序2而得到导电图案，工序1：用具有广谱的光对基板上的膜以形成曝光部、非曝光部的方式进行曝光，通过显影除去未曝光部分的工序，工序2：对基板上的膜以形成曝光部、非曝光部的方式进行预曝光，通过显影除去未曝光部分而得到图案后，对于得到的图案用具有广谱的光进行曝光的工序。
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