[发明专利]成型体及其制造方法有效
| 申请号： | 201380028642.6 | 申请日： | 2013-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN104797421A | 公开（公告）日： | 2015-07-22 |
| 发明（设计）人： | 松村忠佳;奥田畅 | 申请（专利权）人： | 旭化成化学株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B27/30;B32B1/02;B32B37/06;B32B37/10;B32B33/00;B65D65/40 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的包装用成型体将具有阻隔层的层积膜成型而得到，该包装用成型体具备开口面积为A的开口和构成用于容纳内容物的空间且表面积为B的内面，在内面的表面积B与开口的开口面积A之比B/A为1.2以上7以下、且该成型体的厚度的最大值为300μm以上的情况下，阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.2以上，在该成型体的厚度的最大值小于300μm的情况下，阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.12以上。 | ||
| 搜索关键词： | 成型 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种成型体，其为将具有阻隔层的层积膜成型而得到的成型体，所述成型体具备开口面积为A的开口和构成用于容纳内容物的空间且表面积为B的内面，在所述内面的表面积B与所述开口的开口面积A之比B/A为1.2以上7以下、且该成型体的厚度的最大值为300μm以上的情况下，所述阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.2以上，在该成型体的厚度的最大值小于300μm的情况下，所述阻隔层的最小厚度TMIN与最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX为0.12以上。
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