[发明专利]成型体及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及将具有阻隔层的层积膜成型而得到的成型体及其制造方法。

背景技术

作为容纳食品或药品的容器，使用了具有阻隔层的成型体。该成型体通过将具有阻隔层的层积膜成型而制造。阻隔层起到妨碍内容物与空气中的氧或水蒸气接触的作用。迄今为止正在开发具有阻隔层的各种容器。例如，专利文献1中公开了一种使用经拉伸的聚偏二氯乙烯(PVDC)膜的多层塑料容器。专利文献2中公开了一种由偏二氯乙烯系树脂构成的层压用无拉伸膜。专利文献3、4中公开了一种用于提高偏二氯乙烯系拉伸膜的成型性的热处理。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平3-244537号公报

专利文献2：日本特开昭62-285928号公报

专利文献3：日本专利第4889478号公报

专利文献4：日本特开2011-212983号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，为了使成型体稳定地发挥阻隔性能，在成型体的整个厚度之中希望阻隔层的厚度占特定的比例以上。但是，在专利文献1中记载的发明中，使用了经相当程度拉伸的PVDC膜作为阻隔层。因此，在由该PVDC膜制作的成型体中存在阻隔层(PVDC膜)的厚度显著薄的部分。原本PVDC膜具有难以伸长的性质，因此包含PVDC膜的现有的层积膜的成型性不充分，难以应用于深容器的成型。在专利文献2中记载的发明中，使用了无拉伸的PVDC膜。在由包含无拉伸的PVDC膜的层积膜制作成型体的情况下，也存在阻隔层(PVDC膜)的厚度显著薄的部分。另外，分子完全未进行取向的单层的PVDC膜脆、处理性显著差，因此对使用该膜稳定地生成制品来说还存在改善的余地。专利文献3、4中记载的发明试图通过热处理来提高膜的成型性，但是在深冲成型中的应用、即制造更深的成型容器方面还存在改善的余地。

在由包含分子完全未进行取向的无拉伸膜作为阻隔层的层积膜来制造成型体的情况下，无拉伸膜的应力显著较低，因此通过成型而使无拉伸膜产生厚度斑，其结果，容易产生无拉伸膜(阻隔层)的厚度显著较薄的部位。由此，具有成型体的阻隔性能和强度容易不足的问题。另一方面，在由包含分子因拉伸而过度取向的拉伸膜作为阻隔层的层积膜来制造成型体的情况下，拉伸膜的应力显著较高，因而成型性不充分。因此，例如若利用模塞而强行成型，则拉伸膜会产生厚度斑，其结果，成型体中容易产生拉伸膜(阻隔层)的厚度极薄的部位。

本发明是鉴于上述实际情况而进行的，其目的在于提供一种具有某种程度的深度且具有足够高的阻隔性的成型体及其制造方法。

用于解决课题的方案

本发明人为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现，在将包含阻隔层的层积膜加工成成型体后，为了将阻隔层的厚度保持为某个一定厚度以上，将膜的分子取向度保持在适度范围是有用的，由此完成了本发明。

即，本发明如下所述。

[1]一种成型体，其为将具有阻隔层的层积膜成型而得到的成型体，所述成型体具备开口面积为A的开口和构成用于容纳内容物的空间且表面积为B的内面，在内面的表面积B与开口的开口面积A之比B/A为1.2以上7以下、且该成型体的厚度的最大值为300μm以上的情况下，阻隔层的最小厚度T_MIN与最大厚度T_MAX之比T_MIN/T_MAX为0.2以上，在该成型体的厚度的最大值小于300μm的情况下，阻隔层的最小厚度T_MIN与最大厚度T_MAX之比T_MIN/T_MAX为0.12以上。

[2]如[1]所述的成型体，其中，内面的表面积B与开口的开口面积A之比B/A为3.6以上7以下。

[3]如[1]或[2]所述的成型体，其中，阻隔层在120℃条件下的热收缩率为1％以上5％以下。

[4]如[1]～[3]的任一项所述的成型体，其中，阻隔层为聚偏二氯乙烯系膜。

[5]如[4]所述的成型体，其中，聚偏二氯乙烯系膜的膜截面的二色性比为1.2～1.8。

[6]如[4]或[5]所述的成型体，其中，聚偏二氯乙烯系膜的厚度为8μm～50μm。