[发明专利]含Cr奥氏体合金及其制造方法有效
| 申请号： | 201380017139.0 | 申请日： | 2013-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN104220631B | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 正木康浩;神崎学;日高康善;上平明弘;宫原整 | 申请（专利权）人： | 新日铁住金株式会社 |
| 主分类号： | C23C8/16 | 分类号： | C23C8/16;C21D1/10;C21D1/76;C22C19/05;C22C38/00;C22C38/50;C23C8/18;G21D1/00;C22F1/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及含Cr奥氏体合金，其为在表面形成有铬氧化物覆膜的含Cr奥氏体合金，母材的Mn含量以质量％计不足0.1％。母材的化学组成理想的是以质量％计包含C：0.15％以下、Si：1.00％以下、Mn：不足0.1％、P：0.030％以下、S：0.030％以下、Cr：10.0～40.0％、Ni：8.0～80.0％、Ti：0.5％以下、Cu：0.6％以下、Al：0.5％以下以及N：0.20％以下、和余量Fe以及杂质。 | ||
| 搜索关键词： | cr 奥氏体 合金 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种含Cr奥氏体合金，其特征在于，其为在表面形成有厚度为5nm以上且48nm以下的铬氧化物覆膜的含Cr奥氏体合金，母材的化学组成以质量％计包含C：0.15％以下、Si：1.00％以下、Mn：不足0.1％、P：0.030％以下、S：0.030％以下、Cr：10.0～40.0％、Ni：55～80.0％、Ti：0.5％以下、Cu：0.6％以下、Al：0.5％以下以及N：0.20％以下、和余量Fe以及杂质。
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