[发明专利]基板处理装置的故障监视系统及基板处理装置的故障监视方法有效
| 申请号: | 201380016313.X | 申请日: | 2013-03-14 |
| 公开(公告)号: | CN104185893B | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
| 发明(设计)人: | 波冈一朗 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;G01N35/00;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 李洋,舒艳君 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供用于监视对被处理基板实施规定处理的基板处理装置的故障的基板处理装置的故障监视系统,所述基板处理装置的故障监视系统具备警报收集单元,其收集由所述基板处理装置发出了的警报;和解析单元,其解析通过所述警报收集单元收集到的警报,并且在将一个轴设为确定警报发出部位的警报ID、将另一个轴设为规定的监视期间的2维空间上作为表示各监视期间的警报发出频率的图像而显示。 | ||
| 搜索关键词: | 处理 装置 故障 监视 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种基板处理装置的故障监视系统,其用于监视对被处理基板实施规定处理的基板处理装置的故障,其特征在于,具备:警报收集单元,其收集由所述基板处理装置发出了的警报;和解析单元,其解析通过所述警报收集单元收集到的警报,并且在将一个轴设为确定警报发出部位的警报ID、将另一个轴设为规定的监视期间的2维空间上作为表示各监视期间的警报发出频率的图像而显示。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380016313.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





