[发明专利]基板处理装置的故障监视系统及基板处理装置的故障监视方法有效
| 申请号: | 201380016313.X | 申请日: | 2013-03-14 |
| 公开(公告)号: | CN104185893B | 公开(公告)日: | 2017-11-21 |
| 发明(设计)人: | 波冈一朗 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;G01N35/00;H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 李洋,舒艳君 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 处理 装置 故障 监视 系统 方法 | ||
1.一种基板处理装置的故障监视系统,其用于监视对被处理基板实施规定处理的基板处理装置的故障,
其特征在于,具备:
警报收集单元,其收集由所述基板处理装置发出了的警报;和
解析单元,其解析通过所述警报收集单元收集到的警报,并且在将一个轴设为确定警报发出部位的警报ID、将另一个轴设为规定的监视期间的2维空间上作为表示各监视期间的警报发出频率的图像而显示。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置的故障监视系统,其特征在于,具备:
图案提取单元,其提取通过所述解析单元显示的所述2维空间上的图案;和
存储单元,其存储通过所述图案提取单元提取出的图案和关于与该图案的数据建立关联的修理的数据。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置的故障监视系统,其特征在于,
所述存储单元存储通过所述图案提取单元提取出的图案和关于之后发生的故障的信息。
4.根据权利要求2所述的基板处理装置的故障监视系统,其特征在于,具备:
图案检测单元,其从通过所述图案提取单元提取出的图案中检测在所述存储单元中存储的对应的图案。
5.根据权利要求3所述的基板处理装置的故障监视系统,其特征在于,具备:
图案检测单元,其从通过所述图案提取单元提取出的图案中检测在所述存储单元中存储的对应的图案。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置的故障监视系统,其特征在于,
通过不同的颜色来显示警报发出频率。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的基板处理装置的故障监视系统,其特征在于,
所述基板处理装置是清洗被处理基板的基板清洗装置、对被处理基板进行光刻胶的涂覆以及显影的涂覆显影装置、进行被处理基板的蚀刻的蚀刻装置、对被处理基板进行成膜的成膜装置、以及对被处理基板实施热处理的热处理装置中的任意装置。
8.根据权利要求6所述的基板处理装置的故障监视系统,其特征在于,
所述基板处理装置是清洗被处理基板的基板清洗装置、对被处理基板进行光刻胶的涂覆以及显影的涂覆显影装置、进行被处理基板的蚀刻的蚀刻装置、对被处理基板进行成膜的成膜装置、以及对被处理基板实施热处理的热处理装置中的任意装置。
9.一种基板处理装置的故障监视方法,其用于监视对被处理基板实施规定处理的基板处理装置的故障,
其特征在于,包括:
收集由所述基板处理装置发出了的警报的警报收集工序;和
解析通过所述警报收集工序收集到的警报,并且在将一个轴设为确定警报发出部位的警报ID、将另一个轴设为规定的监视期间的2维空间上作为表示各监视期间的警报发出频率的图像而显示的工序。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380016313.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





