[发明专利]基板处理装置的故障监视系统及基板处理装置的故障监视方法有效

专利信息
申请号: 201380016313.X 申请日: 2013-03-14
公开(公告)号: CN104185893B 公开(公告)日: 2017-11-21
发明(设计)人: 波冈一朗 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;G01N35/00;H01L21/66
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 李洋,舒艳君
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置 故障 监视 系统 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及基板处理装置的故障监视系统及基板处理装置的故障监视方法。

背景技术

以往,在半导体器件、平板显示器用基板或者太阳能电池板等的制造中,使用多个基板处理装置。例如,在半导体器件的制造中,使用半导体晶片的清洗装置、涂覆显影装置、蚀刻装置、成膜装置、热处理装置等各种基板处理装置(例如,参照专利文献1。)。这样的基板处理装置中存在如下所述的装置,即,该装置构成为在发生了某些故障的情况下发出警报来通知故障的发生。

然而,在基板处理装置中,存在其结构复杂的倾向,并且故障的发生也存在不仅发生单一部位的故障,而是在相互关联的部位发生的混合故障、连锁故障的倾向。例如,在对半导体晶片进行批量处理的热处理炉中,有时警报发生部位涉及数千个部位。而且,当在这样的基板处理装置中发生了故障的情况下,难以对故障发生部位进行准确的确定和修理,从而要求装置维护工程师具有较高的技巧。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2012-19156号公报

发明内容

如上所述,基板处理装置存在其结构复杂、难以进行故障发生部位的准确的确定和修理的问题。

本发明是为了解决上述以往的问题而提出的,其目的在于提供一种能够对基板处理装置中的故障发生部位进行准确的确定和修理的基板处理装置的故障监视系统及基板处理装置的故障监视方法。

本发明的基板处理装置的故障监视系统的一个方式是用于监视对被处理基板实施规定处理的基板处理装置的故障的基板处理装置的故障监视系统,所述基板处理装置的故障监视系统具备:警报收集单元,其收集在由所述基板处理装置发出了的警报;和解析单元,其解析通过所述警报收集单元收集到的警报,并且在将一个轴设为确定警报发出部位的警报ID、将另一个轴设为规定的监视期间的2维空间上作为表示各监视期间的警报发出频率的图像而显示。

本发明的基板处理装置的故障监视方法的一方式涉及用于监视对被处理基板实施规定处理的基板处理装置的故障的基板处理装置的故障监视方法,所述基板处理装置的故障监视方法具备:收集由所述基板处理装置发出了的警报的警报收集工序;和解析通过所述警报收集工序收集到的警报,并且在将一个轴设为确定警报发出部位的警报ID、将另一个轴设为规定的监视期间的2维空间上作为表示各监视期间的警报发出频率的图像而显示的工序。

根据本发明,能够提供可对基板处理装置中的故障发生部位进行准确的确定和修理的基板处理装置的故障监视系统及基板处理装置的故障监视方法。

附图说明

图1是表示本发明的一实施方式的结构的图。

图2是表示警报发生状况的图表的例子的图。

图3是表示警报网格的显示画面的例子的图。

图4是表示警报网格的显示画面的例子的图。

图5是表示警报网格的显示画面的例子的图。

图6是表示显示画面的例子的图。

图7是表示显示画面的例子的图。

具体实施方式

以下,参照图面来说明本发明的实施方式。

图1是表示本发明的一实施方式所涉及的基板处理装置的故障监视系统的结构的图。在图1中,100是基板处理装置的故障监视系统,110、111是基板处理装置,在本实施方式中是利用批量处理对半导体晶片实施热处理的热处理装置(热处理炉)。基板处理装置的故障监视系统100经由网络线路120与基板处理装置110、111连接。

基板处理装置(热处理装置)110、111具备大致垂直地立起设置且下端作为炉口而开口的圆筒状的热处理炉、在晶片载体与石英制的晶片舟之间移栽半导体晶片的移栽机构、使晶片舟上下移动来向热处理炉内加载或从热处理炉卸载的晶舟升降机等公知的热处理装置的结构。

而且构成为,利用移栽机构将晶片载体内的半导体晶片移栽到晶片舟,利用晶舟升降机将该晶片舟向热处理炉内插入,将热处理炉内设为规定的氛围并对其进行半导体晶片的热处理。

另外,在基板处理装置110、111的各部配置有警报机构,例如构成为,在半导体晶片的传送中发生了故障的情况、在热处理中发生了故障的情况等发生了各种故障的情况下,发出警报。分别在基板处理装置110、111中配置有多个这样的警报机构,例如数千个。

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