[发明专利]相移板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201380014626.1 申请日: 2013-02-27
公开(公告)号: CN104246550B 公开(公告)日: 2017-04-05
发明(设计)人: 角张祐一;渡部贤一 申请(专利权)人: 株式会社有泽制作所
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1337
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司11002 代理人: 谢顺星,张晶
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种相移板的制造方法,该相移板具有形成有光轴在彼此不同方向上取向的多个区域的取向图案,该方法包括在基材的一面上配置由光进行取向的未取向光取向层的工序;准备具有取向图案的相移掩模的工序,该取向图案形成有与相移板的取向图案的多个区域相对应并具有1/4波长板的相移功能的多个区域;向相移掩模照射椭圆偏光,从而使从相移掩模射出的偏光照射光取向层,由此使光取向层取向的工序。
搜索关键词: 相移 制造 方法
【主权项】:
一种相移板的制造方法,其特征在于,该相移板具有形成有光轴在彼此不同方向上取向的多个区域的取向图案,该方法包括:在基材的一面上配置由光进行取向的未取向光取向层的工序;准备具有取向图案的相移掩模的工序,该取向图案形成有与所述相移板的所述取向图案的所述多个区域相对应并具有1/4波长板的相移功能的多个区域;以及向所述相移掩模照射椭圆偏光,从而使从所述相移掩模射出的偏光照射所述光取向层,由此使所述光取向层取向的工序,其中,在所述相移掩模的所述取向图案的一面上,形成有防止所述相移掩模的所述取向图案发生氧化的保护膜。
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