[发明专利]相移板的制造方法有效
申请号: | 201380014626.1 | 申请日: | 2013-02-27 |
公开(公告)号: | CN104246550B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 角张祐一;渡部贤一 | 申请(专利权)人: | 株式会社有泽制作所 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人: | 谢顺星,张晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 相移 制造 方法 | ||
1.一种相移板的制造方法,其特征在于,该相移板具有形成有光轴在彼此不同方向上取向的多个区域的取向图案,该方法包括:
在基材的一面上配置由光进行取向的未取向光取向层的工序;
准备具有取向图案的相移掩模的工序,该取向图案形成有与所述相移板的所述取向图案的所述多个区域相对应并具有1/4波长板的相移功能的多个区域;
向所述相移掩模照射椭圆偏光,从而使从所述相移掩模射出的偏光照射所述光取向层,由此使所述光取向层取向的工序。
2.根据权利要求1所述的相移板的制造方法,所述相移掩模的所述多个区域的宽度等于所述相移板的所述多个区域的宽度。
3.根据权利要求1或2所述的相移板的制造方法,所述相移掩模的相邻区域的光轴间的角度差等于所述相移板的相邻区域的光轴间的角度差。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的相移板的制造方法,
所述相移掩模具备保持所述取向图案的掩模基材;
所述取向图案具有取向膜、液晶膜以及形成有所述取向膜的基材;
所述液晶膜配置于所述光取向层侧。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的相移板的制造方法,在所述相移掩模的所述取向图案的一面上,形成有防止所述相移掩模的所述取向图案发生氧化的保护膜。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的相移板的制造方法,所述椭圆偏光为紫外线。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的相移板的制造方法,所述相移掩模具有使形成有所述相移掩模的所述取向图案的多个相移板排列的结构。
8.一种相移板的制造方法,其特征在于,该相移板上重复出现形成有光轴在彼此不同方向上取向的多个区域的取向图案,该方法包括:
在基材的一面上配置由光进行取向的未取向光取向层的工序;
准备使多个具有取向图案的相移板排列而成的相移掩模的工序,该取向图案形成有与所述相移板的所述取向图案的所述多个区域的至少一部分相对应的多个区域;
向所述相移掩模照射偏光,从而使从所述相移掩模射出的偏光照射所述光取向层,由此使所述光取向层取向的工序。
9.根据权利要求8所述的相移板的制造方法,进一步包括输送所述光取向层的工序;
所述相移掩模具有使多个形成有不同取向图案的相移板排列的第一掩模部件及第二掩模部件;
所述第一掩模部件及所述第二掩模部件被配置于在所述光取向层的输送方向上的不同位置上。
10.根据权利要求9所述的相移板的制造方法,所述第一掩模部件及所述第二掩模部件的所述取向图案的各区域的宽度大于所述相移板的所述取向图案的各区域的宽度。
11.根据权利要求10所述的相移板的制造方法,从所述偏光的照射方向观察,在所述第一掩模部件及所述第二掩模部件在所述相移板间的边界处形成有遮光膜。
12.根据权利要求11所述的相移板的制造方法,与所述遮光膜相比,所述第一掩模部件及所述第二掩模部件的所述取向图案被配置于更加靠近所述光取向层的位置上。
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