[发明专利]相移板的制造方法有效
申请号: | 201380014626.1 | 申请日: | 2013-02-27 |
公开(公告)号: | CN104246550B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 角张祐一;渡部贤一 | 申请(专利权)人: | 株式会社有泽制作所 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人: | 谢顺星,张晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 相移 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种相移板(phase-shift plate)的制造方法。
背景技术
已知一种形成光学部件的技术,该技术是对形成有取向方向不同的多个区域的掩模照射直线偏光,从而形成具有取向图案的光学部件的技术,所述取向图案具有取向方向彼此不同的多个区域(例如,参照专利文献1)。
专利文献1:日本专利公开平成9-33914号公报
发明内容
(一)要解决的技术问题
然而,在掩模的多个区域中,根据所照射的直线偏光的偏光方向与区域的取向方向之间的角度,使区域的退化程度会有所不同。由此,会造成在光学部件的多个区域间,取向的散乱程度不规则的问题。
(二)技术方案
在本发明的第一方式中提供一种相移板的制造方法,该相移板具有形成有在彼此不同方向上取向的光轴的多个区域的取向图案,该方法包括:在基材的一面上配置能够由光进行取向的未取向的光取向层的工序;准备具有取向图案的相移掩模的工序,该取向图案上形成有与相移板的取向图案的多个区域相对应并具有1/4波长板的相移功能的多个区域;及向相移掩模照射椭圆偏光,使从相移掩模射出的偏光照射光取向层,从而将光取向层取向的工序。
在本发明的第二方式中提供一种相移板的制造方法,该相移板上重复出现形成有在彼此不同方向上取向的光轴的多个区域的取向图案,该方法包括:在基材的一面上配置能够由光进行取向的未取向的光取向层的工序;准备使多个具有取向图案的相移板并排排列的相移掩模的工序,该取向图案上形成有与相移板的取向图案的多个区域的至少一部分相对应的多个区域;向相移掩模照射偏光,使从相移掩模射出的偏光照射光取向层,从而将光取向层取向的工序。
另外,上述发明内容并未列举出本发明的全部必要特征,特征组的子组合也有可能构成发明。
附图说明
图1为由本实施方式制造的相移板100的整体平面图。
图2为沿图1的II-II线的纵截面图。
图3为本实施方式的相移板制造装置10的整体结构图。
图4为曝光部18的整体立体图。
图5为相移掩模38的纵截面图。
图6为说明使用相移掩模38的掩模板58而进行薄膜90的曝光的立体图。
图7为表示掩模板58的退化与累计照射能量之间关系的图。
图8为表示掩模板58的退化与累计照射能量之间关系的图。
图9为相移掩模38的截面图。
图10为表示形成了保护膜64的掩模板58的退化与累计照射能量之间关系的图。
图11为说明使用变更的相移掩模338进行取向而得的相移板300的取向图案306的平面图。
图12为相移掩模338的掩模部件370及掩模部件372的纵截面图。
图13为表示相移掩模338的分解立体图与薄膜90的关系的图。
图14为变更的相移掩模438的平面图。
图15为变更了掩模部件370、372的实施方式的说明图。
具体实施方式
以下通过发明实施方式对本发明进行说明,但以下实施方式并非对权利要求书所涉及的发明进行限定。并且,实施方式中说明的特征的全部组合对于本发明的解决方案来说也不一定是必需的。
图1为根据本实施方式的制造方法制造的相移板100的整体平面图。将图1中箭头所示的垂直及水平作为相移板100的垂直方向及水平方向。
相移板100被设置为例如光学低通滤波器的衍射光栅的一部分。相移板100形成为一边为数十厘米(cm)~数米(m)的长方形。如图1所示,相移板100具备树脂基材102和取向图案106。
树脂基材102通过将后述树脂制的长条状的薄膜切割成一定长度而形成。树脂基材102使光透过。树脂基材102的厚度的一例为50μm~100μm。树脂基材102支承取向图案106。
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