[实用新型]一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备有效
| 申请号： | 201320761030.5 | 申请日： | 2013-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN203715717U | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 宋光耀;范文明;檀晓兵 | 申请（专利权）人： | 昂纳信息技术（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/24 |
| 代理公司： | 深圳市君盈知识产权事务所(普通合伙) 44315 | 代理人： | 陈琳 |
| 地址： | 518118 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备，包括真空腔室、基片架系统和镀膜沉积系统，所述基片架系统位于所述真空腔室内部，所述基片架系统，包含多个可翻转的单根立柱；所述镀膜沉积系统，包含安装于真空腔室内壁上至少一对溅射阴极、离子源和位于基片架系统内侧的蒸发源。通过位于真空腔体的内壁上的溅射阴极对基片进行AR膜镀制，单根立柱将镀完增透膜的基片翻转到内侧通过蒸发源对基片进行AF膜的镀制，达到制作过程时间短，无需在AR制作完成后换一台镀膜机进行AF制作，提高了批量化制作时的良率以及产能的效果，且表面不易被污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ar af 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备，包括真空腔室、基片架系统和镀膜沉积系统，所述基片架系统位于所述真空腔室内部，其特征在于：所述基片架系统，包含多个可翻转的单根立柱；所述镀膜沉积系统，包含安装于真空腔室内壁上至少一对溅射阴极、离子源和位于基片架系统内侧的蒸发源。
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