[实用新型]一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种同炉镀制AR膜和AF膜的设备。

背景技术

目前，消费类电子产品的屏幕基本需要在屏幕表面镀制AR膜和AF膜，其中，AR膜是Anti-Reflect的缩写，也称增透膜，减反膜；AF膜是Anti-Fingerprint的缩写是防指纹膜。

在光学仪器中，光学元件表面的反射，不仅影响光学元件的通光能量，而且这些反射光还会在仪器中形成杂散光，影响光学仪器的成像质量，为了解决这些问题，通常在光学元件的表面镀上一定厚度的单层或多层AR膜，目的是为了减小元件表面的反射光。常用的AR膜,并没有使透射光的光强达到最大，也就是说没有使反射光达到最弱，主要是要增透的光往往不是单色的，而是有一定的频宽，而对于一个增透膜只对某一波长的单色光有完全增透的作用。因此可以通过多层镀膜技术来改善增透效果，同时也增加了透射光的线宽，也就是频宽。

因此，AR膜一般的镀膜方法是使用高低两种折射率交替镀膜，往往层数越多，对每一层膜厚控制要求越高。这种AR膜系通过真空蒸发镀膜可以实现。为了保证每个基片表面的薄膜厚度一致，基本上都需要保持膜料与基片之间距离一致，这样就形成蒸发镀膜时基片都是放置在镀膜机内腔上方的一个类似伞状的基片架上。同样的原理，基片的尺寸如果太大（不论长宽），也会导致膜层厚度的不一致，所以对于同一台镀膜机，基片尺寸基本都是有限制的。

基本上AF膜就只是一层薄膜，通过专用的AF膜料来制作，制作原理同上述内容，AF膜属于功能类薄膜，对厚度一致性要求并不高，但对水滴角及耐刮要求则很严格。

目前的制作方法基本都是采用AR制作完成后换一台镀膜机再进行AF制作，这样的制作会导致中间过程时间长，表面易污染，会带来批量化制作时良率下降以及产能降低等问题。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备，克服传统制作过程时间长，表面易污染，导致批量化制作时良率下降以及产能降低等的缺陷。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备，包括真空腔室、基片架系统和镀膜沉积系统，所述基片架系统位于所述真空腔室内部，

所述基片架系统，包含多个可翻转的单根立柱；

所述镀膜沉积系统，包含安装于真空腔室内壁上至少一对溅射阴极、离子源和位于基片架系统内侧的蒸发源。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述单根立柱上设置有磁性限位块及磁性可动块。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述真空腔室顶部设置有带动所述单根立柱翻转的运动机构。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述运动机构包括可伸缩的翻转支柱，以及翻转块和保护头，所述翻转块和所述保护块是采用铰链单边链接。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述基片架系统整体呈圆桶状，所述多个单根立柱彼此平行排列构成圆桶状表面。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述基片架系统还包括基片架底圈及用于装卸和方便所述单根立柱转动的上下圆环。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述设备还包括基片转动计数系统，该基片转动计数系统包括光纤探头和计数孔，所述计数孔开设于基片架底圈上。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述光纤探头位于真空腔体底部并与基片架底圈上的计数孔相适应的位置。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述真空腔室还包括真空室门，该真空室门至少为两扇。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述离子源和所述溅射阴极均设有可移动的挡板系统，所述蒸发源设有固定机构。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述挡板系统包括提供动力的电机、传递动力的轴、齿轮及挡板。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述挡板上设置有挡板槽，该挡板槽与所述齿轮相啮合。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述设备还包括对基片及基片架进行加热的加热系统，所述加热系统位于真空腔体的内壁上。

本实用新型的更进一步优选方案是：所述基片架系统还包括一驱动其自身转动驱动装置。