[实用新型]一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备

权利要求书

1.一种AR膜和AF膜同炉镀膜设备，包括真空腔室、基片架系统和镀膜沉积系统，所述基片架系统位于所述真空腔室内部，其特征在于：

所述基片架系统，包含多个可翻转的单根立柱；

所述镀膜沉积系统，包含安装于真空腔室内壁上至少一对溅射阴极、离子源和位于基片架系统内侧的蒸发源。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述单根立柱上设置有磁性限位块及磁性可动块。

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述真空腔室顶部设置有带动所述单根立柱翻转的运动机构。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于：所述运动机构包括可伸缩的翻转支柱，以及翻转块和保护头，所述翻转块和所述保护块是采用铰链单边链接。

5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述基片架系统整体呈圆桶状，所述多个单根立柱彼此平行排列构成圆桶状表面。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述基片架系统还包括基片架底圈及用于装卸和方便所述单根立柱转动的上下圆环。

7.根据权利要求6所述的设备，其特征在于：所述设备还包括基片转动计数系统，该基片转动计数系统包括光纤探头和计数孔，所述计数孔开设于基片架底圈上。

8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于：所述光纤探头位于真空腔体底部并与基片架底圈上的计数孔相适应的位置。

9.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述真空腔室还包括真空室门，该真空室门至少为两扇。

10.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述离子源和所述溅射阴极均设有可移动的挡板系统，所述蒸发源设有固定机构。

11.根据权利要求10所述的设备，其特征在于：所述挡板系统包括提供动力的电机、传递动力的轴、齿轮及挡板。

12.根据权利要求11所述的设备，其特征在于：所述挡板上设置有挡板槽，该挡板槽与所述齿轮相啮合。

13.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述设备还包括对基片及基片架进行加热的加热系统，所述加热系统位于真空腔体的内壁上。

14.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述基片架系统还包括一驱动其自身转动驱动装置。