[实用新型]一种阵列基板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201320416813.X 申请日: 2013-07-12
公开(公告)号: CN203422543U 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 孙建;李成;安星俊;柳奉烈 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种阵列基板和显示装置。该阵列基板包括基板以及设置在基板上的数据线和扫描线,数据线和扫描线围成多个像素区域,像素区域内设置有薄膜晶体管,薄膜晶体管包括栅电极、源电极、漏电极和有源区,栅电极设置在有源区的上方,源电极与漏电极分设在有源区的相对两侧,像素区域内还设置有遮光金属层,遮光金属层和数据线同层设置在基板上,遮光金属层设置在有源区下方,且在正投影方向上与有源区至少部分重叠,数据线靠近源电极且在正投影方向上与有源区至少部分不重叠。本实用新型通过将遮光金属层和数据线在同一步骤中形成在同一层中,减少了阵列基板的构图工艺次数,提高了阵列基板及显示装置的制备效率。
搜索关键词: 一种 阵列 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括基板以及设置在所述基板上的数据线和扫描线,所述数据线和所述扫描线围成多个像素区域,所述像素区域内设置有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括栅电极、源电极、漏电极和有源区,所述栅电极设置在所述有源区的上方,所述源电极和所述漏电极分设在所述有源区的相对两侧,所述像素区域内还设置有遮光金属层,其特征在于,所述遮光金属层和所述数据线同层设置在所述基板上,所述遮光金属层设置在所述有源区下方,且在正投影方向上与所述有源区至少部分重叠,所述数据线靠近所述源电极且在正投影方向上与所述有源区至少部分不重叠。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320416813.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top