[实用新型]低温等离子体清洗设备

摘要

本实用新型涉及一种低温等离子体清洗设备，该设备低温等离子体发生装置、履带输送机构、自动上料、下料机构以及受控驱动电机设置在密封反应仓内，该反应仓两端的进出物料口处各设置一个风门阻隔装置，履带输送机构履带呈水平设置，自动上料机构和自动下料机构分置履带两端并靠近反应仓进出物料口处，低温等离子体发生装置设置于履带上方，数种气源经多气体比例混合供给装置和管道进入低温等离子体发生装置的辉光放电腔体内，在高频高压电源的作用下形成等离子体态工作气体束流并射向履带上的物料，进行物理和化学方式清洗。本实用新型在常温常压条件下完成清洗，可方便地对半导体封装引线框架、硅晶圆芯片、电子元件、印刷线路板、精密机械零件等进行清洗，有效的解决被清洗物品材料表面氧化和有机物污染问题，极大提高了芯片的引线焊接质量和封装品质。

主权项

一种低温等离子体清洗设备，该设备构成包括有低温等离子体发生装置、多气体比例混合供给装置、物料输送装置、设备总控制器、高频高压电源、气源等，低温等离子体发生装置通过高频高压电缆与高频高压电源发生器电连接，其特征在于：所述低温等离子体发生装置、物料输送装置均设置在带有观察窗的密封反应仓内，该密封反应仓两端的进出物料口处各设置一个风门阻隔装置，所述物料输送装置由履带输送机构、自动上料机构、自动下料机构以及受控驱动电机组成，履带输送机构的履带呈水平设置，自动上料机构和自动下料机构分置履带两端并靠近反应仓进出物料口处，所述低温等离子体发生装置位于履带上方，数种气源经多气体比例混合供给装置和管道，进入低温等离子体发生装置的辉光放电腔体内，形成等离子体态工作气体束流并射向履带上的物料。