[实用新型]低温等离子体清洗设备有效

专利信息
申请号: 201320014652.1 申请日: 2013-01-11
公开(公告)号: CN203085491U 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 程方;程宇宸;郭勇 申请(专利权)人: 南京华科皓纳电气科技有限责任公司;程方
主分类号: H01L21/3065 分类号: H01L21/3065;C23F1/08;C23F1/12
代理公司: 南京同泽专利事务所(特殊普通合伙) 32245 代理人: 闫彪
地址: 210012 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 低温 等离子体 清洗 设备
【权利要求书】:

1.一种低温等离子体清洗设备,该设备构成包括有低温等离子体发生装置、多气体比例混合供给装置、物料输送装置、设备总控制器、高频高压电源、气源等,低温等离子体发生装置通过高频高压电缆与高频高压电源发生器电连接,其特征在于:所述低温等离子体发生装置、物料输送装置均设置在带有观察窗的密封反应仓内,该密封反应仓两端的进出物料口处各设置一个风门阻隔装置,所述物料输送装置由履带输送机构、自动上料机构、自动下料机构以及受控驱动电机组成,履带输送机构的履带呈水平设置,自动上料机构和自动下料机构分置履带两端并靠近反应仓进出物料口处,所述低温等离子体发生装置位于履带上方,数种气源经多气体比例混合供给装置和管道,进入低温等离子体发生装置的辉光放电腔体内,形成等离子体态工作气体束流并射向履带上的物料。

2.如权利要求1所述的低温等离子体清洗设备,其特征在于:所述低温等离子体发生装置由若干低温等离子体发生单元组成,各个低温等离子体发生单元均匀地排布于履带输送机构履带正上方和斜上方,每个低温等离子体发生单元均通过高频高压电缆与高频高压电源呈电连接,气源经多气体比例混合供给装置和管道送入每个低温等离子体发生单元的辉光放电腔体内,形成等离子体态工作气体束流并从不同方向射向履带上的物料。

3.如权利要求2所述的低温等离子体清洗设备,其特征在于:所述若干低温等离子体发生单元在履带正上方和斜上方空间位置上相对交错排列,低温等离子体发生单元所产生等离子体态工作气体束流喷射方向或垂直于履带平面、或与履带平面法线成三十度至六十度夹角。

4.如权利要求1或2所述的低温等离子体清洗设备,其特征在于:所述多气体比例混合供给装置是由气体流量调节阀、比例混合器、电磁控制气阀构成。

5.如权利要求1所述的低温等离子体清洗设备,其特征在于:所述履带是由耐腐蚀抗静电的金属合金材料或氟塑料复合金属薄膜制成,所述受控驱动电机为可自调、可受外控的变速电机。

6.如权利要求1所述的低温等离子体清洗设备,其特征在于:所述的自动上料机构和自动下料机构为吸盘式气动机械机构或磋轮式电动机械机构,自动上料机构和自动下料机构受设备总控制器控制。

7.如权利要求1所述的低温等离子体清洗设备,其特征在于:所述密封反应仓内为自然条件下的常温常压状态。

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