[发明专利]一种抗反射基板及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201310731233.4 | 申请日： | 2013-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN104749667A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 李勃 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G09F9/00;H01L27/32;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 彭秀丽 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明所述的抗反射基板，包括透明基板本体以及均匀分散在透明基板本体中的透明粒子，透明粒子与基板本体之间存在曲面和/或平面界面，外界光线入射到所述抗反射基板时，在界面处折射率发生变化，形成漫反射，从而实现反射率的降低。本发明所述的抗反射基板的制备方法，结构简单、工艺成熟，适合大规模生产。本发明应用所述抗反射基板的所述平面显示装置，不需要在现有平面显示装置中增加元件或改变装置结构，即可实现降低反射率的目的，工艺简单、良品率高，可有效提高经济效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种抗反射基板，包括透明的基板本体，其特征在于，所述基板本体中均匀分散有透明粒子，所述基板本体的折射率为1.3～1.9，所述透明粒子的折射率为1.3～1.9，所述透明粒子的粒径为0.1～150μm；所述基板本体的厚度为0.2～1.1mm。
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