[发明专利]一种抗反射基板及其制备方法和应用在审
| 申请号: | 201310731233.4 | 申请日: | 2013-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN104749667A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
| 发明(设计)人: | 李勃 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;G09F9/00;H01L27/32;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 彭秀丽 |
| 地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 反射 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种抗反射基板,包括透明的基板本体,其特征在于,所述基板本体中均匀分散有透明粒子,所述基板本体的折射率为1.3~1.9,所述透明粒子的折射率为1.3~1.9,所述透明粒子的粒径为0.1~150μm;所述基板本体的厚度为0.2~1.1mm。
2.根据权利要求1所述的抗反射基板,其特征在于,所述基板本体为玻璃基板本体,所述透明粒子为玻璃粒子,所述玻璃粒子的熔融温度比所述玻璃基板本体的熔融温度高50~200℃。
3.根据权利要求1所述的抗反射基板,其特征在于,所述基板本体为聚合物基板本体,所述透明粒子为玻璃粒子或二氧化硅粒子或聚合物粒子。
4.根据权利要求3所述的抗反射基板,其特征在于,所述聚合物粒子的熔融温度比所述聚合物基板本体的熔融温度高50~200℃。
5.一种权利要求1-4任一所述的抗反射基板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、加热基板本体材料,使之处于熔融状态,并稳定温度;
S2、将透明粒子加入到熔融状态的所述基板本体材料中,混合均匀;
S3、将步骤S2中制得的混合物形成板材,并冷却形成所述抗反射基板。
6.根据权利要求5所述的抗反射基板的制备方法,其特征在于,步骤S1中所述温度小于步骤S2中所述透明粒子的熔融温度。
7.一种平面显示装置,其特征在于,所述平面显示装置的透光面设置有权利要求1~4任一所述的抗反射基板。
8.根据权利要求7所述的平面显示装置,其特征在于,所述平面显示装置为有机电致发光显示装置。
9.根据权利要求8所述的平面显示装置,其特征在于,所述有机电致发光显示装置包括若干并置的有机发光二极管,所述有机发光二极管包括依次堆叠设置的第一电极层、有机层和第二电极层,所述第二电极层为出光电极,所述抗反射基板设置在所述第二电极上。
10.根据权利要求7所述的平面显示装置,其特征在于,所述平面显示装置为液晶显示装置。
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