[发明专利]一种抗反射基板及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201310731233.4 申请日: 2013-12-26
公开(公告)号: CN104749667A 公开(公告)日: 2015-07-01
发明(设计)人: 李勃 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;G09F9/00;H01L27/32;G02F1/1333
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 彭秀丽
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 反射 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种抗反射基板,包括透明的基板本体,其特征在于,所述基板本体中均匀分散有透明粒子,所述基板本体的折射率为1.3~1.9,所述透明粒子的折射率为1.3~1.9,所述透明粒子的粒径为0.1~150μm;所述基板本体的厚度为0.2~1.1mm。

2.根据权利要求1所述的抗反射基板,其特征在于,所述基板本体为玻璃基板本体,所述透明粒子为玻璃粒子,所述玻璃粒子的熔融温度比所述玻璃基板本体的熔融温度高50~200℃。

3.根据权利要求1所述的抗反射基板,其特征在于,所述基板本体为聚合物基板本体,所述透明粒子为玻璃粒子或二氧化硅粒子或聚合物粒子。

4.根据权利要求3所述的抗反射基板,其特征在于,所述聚合物粒子的熔融温度比所述聚合物基板本体的熔融温度高50~200℃。

5.一种权利要求1-4任一所述的抗反射基板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1、加热基板本体材料,使之处于熔融状态,并稳定温度;

S2、将透明粒子加入到熔融状态的所述基板本体材料中,混合均匀;

S3、将步骤S2中制得的混合物形成板材,并冷却形成所述抗反射基板。

6.根据权利要求5所述的抗反射基板的制备方法,其特征在于,步骤S1中所述温度小于步骤S2中所述透明粒子的熔融温度。

7.一种平面显示装置,其特征在于,所述平面显示装置的透光面设置有权利要求1~4任一所述的抗反射基板。

8.根据权利要求7所述的平面显示装置,其特征在于,所述平面显示装置为有机电致发光显示装置。

9.根据权利要求8所述的平面显示装置,其特征在于,所述有机电致发光显示装置包括若干并置的有机发光二极管,所述有机发光二极管包括依次堆叠设置的第一电极层、有机层和第二电极层,所述第二电极层为出光电极,所述抗反射基板设置在所述第二电极上。

10.根据权利要求7所述的平面显示装置,其特征在于,所述平面显示装置为液晶显示装置。

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