[发明专利]一种抗反射基板及其制备方法和应用

说明书

技术领域

本发明涉及平板显示技术领域，具体涉及一种用于平板显示装置的抗反射基板及其制备方法和应用。

背景技术

在户外条件下，特别是强光条件下，诸如液晶显示装置（LCD）、等离子体显示面板（PDP）、有机电致发光显示器（OLED）等平板显示装置极易反射环境光，造成对比度不足，从而使得显示效果变差。

针对平板显示装置在强光下对比度不足的问题，现有技术中提出了多种方法。

一是在显示装置的显示表面设置偏光片，但该方法会大幅度降低显示器亮度，显示装置的透光率会被偏光片降低45%以上。在液晶显示装置等被动发光装置中必须增加背光源亮度，在有机电致发光显示装置等主动发光装置中必须增加操作电压以达到亮度要求，而这些增加亮度的方法均会影响显示装置的使用寿命。

二是在显示装置的显示表面设置光学反射层。例如，中国专利CN103197361A公开了一种透明无色度的抗反射涂层，所述抗反射层包括交替布置在衬底上的多个高反射层和多个低反射层，所述高反射层具有大于1.9的折射率，所述低反射层具有小于1.6的折射率；经测试，所述抗反射涂层具有透明无色度的特点，可以使得应用其的显示装置不因任意颜色或反射而失真，并且可以改善显示装置在户内或户外的可读性。但是所述抗反射涂层需要通过选择性利用晶体厚度控制方法（QCM）和光学厚度控制方法（OPM）来控制所述高反射层和所述低反射层的厚度，精确度要求高、工艺难度大，不适合实施大规模工业化生产。

发明内容

为此，本发明所要解决的是现有解决平板显示装置表面反射光的技术或者影响装置寿命，或者结构复杂、工艺难度大的问题，提供一种结构简单、工艺成本低的抗反射基板及其制备方法和应用。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案如下：

本发明所述的一种抗反射基板，包括透明的基板本体，所述基板本体中均匀分散有透明粒子，所述基板本体的折射率为1.3～1.9，所述透明粒子的折射率为1.3～1.9，所述透明粒子的粒径为0.1～150μm；所述基板本体的厚度为0.2～1.1mm。

所述基板本体为玻璃基板本体，所述透明粒子为玻璃粒子，所述玻璃粒子的熔融温度比所述玻璃基板本体的熔融温度高50～200℃。

所述基板本体为聚合物基板本体，所述透明粒子为玻璃粒子或二氧化硅粒子或聚合物粒子。

所述聚合物粒子的熔融温度比所述聚合物基板本体的熔融温度高50～200℃。

本发明所述的抗反射基板的制备方法，包括如下步骤：

S1、加热基板本体材料，使之处于熔融状态，并稳定温度；

S2、将透明粒子加入到熔融状态的所述基板本体材料中，混合均匀；

S3、将步骤S2中制得的混合物形成板材，并冷却形成所述抗反射基板。

步骤S1中所述温度小于步骤S2中所述透明粒子的熔融温度。

本发明所述的一种平面显示装置，所述平面显示装置的透光面设置有所述的抗反射基板。

所述平面显示装置为有机电致发光显示装置。

所述有机电致发光显示装置包括若干并置的有机发光二极管，所述有机发光二极管包括依次堆叠设置的第一电极层、有机层和第二电极层，所述第二电极层为出光电极，所述抗反射基板设置在所述第二电极上。

所述平面显示装置为液晶显示装置。

步骤S3中所述板材的成型工艺包括注射成型、挤压成型、压制成型、浇注成型、溢流成型或浮法成型中的一种。

本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：

1、本发明所述的抗反射基板，包括透明基板本体以及均匀分散在透明基板本体中的透明粒子，透明粒子与基板本体之间存在曲面和/或平面界面，外界光线入射到所述抗反射基板时，在界面处折射率发生变化，形成漫反射，从而实现反射率的降低。

2、本发明所述的抗反射基板的制备方法，结构简单、工艺成熟，适合大规模生产。

3、本发明应用所述抗反射基板的所述平面显示装置，不需要在现有平面显示装置中增加元件或改变装置结构，即可实现降低反射率的目的，工艺简单、良品率高，可有效提高经济效率。

附图说明

为了使本发明的内容更容易被清楚的理解，下面根据本发明的具体实施例并结合附图，对本发明作进一步详细的说明，其中

图1是本发明所述的一种抗反射面板的剖视图。

附图标记：1-基板本体、2-透明粒子。

具体实施方式