[发明专利]一种卡非佐米的合成方法有效
申请号: | 201310703497.9 | 申请日: | 2013-12-19 |
公开(公告)号: | CN103641890A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 姚全兴;李靖;李娅;喻威 | 申请(专利权)人: | 重庆泰濠制药有限公司 |
主分类号: | C07K7/06 | 分类号: | C07K7/06 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 400050 重庆市*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明涉及药物合成技术领域,具体涉及一种卡非佐米的合成方法。该合成方法步骤为:吗啉-4-基乙酸与L-高苯丙氨酸酯及盐发生缩合反应,再脱羧基保护,生成化合物Ⅴ;L-苯丙氨酸酯及盐与N-Boc-L-亮氨酸发生缩合反应,再脱氨基保护,生成化合物Ⅵ;化合物Ⅴ与化合物Ⅵ发生缩合反应,再脱羧基保护,生成化合物Ⅶ;化合物Ⅶ与化合物Ⅷ发生缩合反应,即得卡非佐米;本发明采用汇聚合成法,提高了反应收率;所用试剂简便易得,污染较小;本工艺仅涉及氨基酸间的缩合以及脱保护,反应简单可控;适用于工业化生产; | ||
搜索关键词: | 一种 卡非佐米 合成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种卡非佐米的合成方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、在第一有机溶剂中,式Ⅰ所示结构的化合物和式Ⅱ所示结构的化合物在第一缩合剂和第一有机碱作用下发生缩合反应,再经脱羧基保护,生成式Ⅴ所示结构的化合物;步骤2、在第二有机溶剂中,式Ⅲ所示结构的化合物和式Ⅳ所示结构的化合物,在第二缩合剂和第二有机碱的作用下发生缩合反应,再经脱氨基保护,生成式Ⅵ所示结构的化合物;步骤3、在第三有机溶剂中,式Ⅴ所示结构的化合物和式Ⅵ所示结构的化合物,在第三缩合剂和第三有机碱作用下发生缩合反应,再经脱羧基保护,生成式Ⅶ所示结构的化合物;步骤4、式Ⅶ所示结构的化合物和式Ⅷ所示结构的化合物发生缩合反应,生成卡非佐米;
其中R为第一基团,第一基团的盐酸盐、硫酸盐、醋酸盐、柠檬酸盐、硝酸盐、苯磺酸盐或对甲苯磺酸盐;R1为第一基团,第一基团的盐酸盐、硫酸盐、醋酸盐、柠檬酸盐、硝酸盐、苯磺酸盐或对甲苯磺酸盐;所述第一基团为C1-C5的直链或支链基团。
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