[发明专利]植物补光发光二极管的制作方法无效

专利信息
申请号: 201310585913.X 申请日: 2013-11-19
公开(公告)号: CN103579422A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 谢海忠;宋昌斌;姚然;卢鹏志;杨华;李璟;伊晓燕;王军喜;王国宏;李晋闽 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 宋焰琴
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种植物补光发光二极管的制作方法,包括在衬底的表面打通孔;在衬底的正反两面蒸度二氧化硅膜保护膜;将衬底清洗;在衬底的一面依次生长N型掺杂层、多量子阱发光层、P型掺杂层和ITO层;在ITO层上一侧及中间向下刻蚀,形成第一台面和第二台面,该第一、第二台面的中心处有一通孔;制作N型电极;制作P型电极;在ITO层上的通孔的内壁制作绝缘层;在衬底背面及通孔内蒸度铬金引导层;在衬底背面旋转涂覆光刻胶并做出图形,形成两个独立的芯片;用一丝网固定在其中的一个芯片表面,遮挡芯片;涂覆荧光粉;烘烤,完成制备。本发明的芯片上能解决植物光合作用需求的光。比原来植物生长LED光源大大节约成本和能量。
搜索关键词: 植物 发光二极管 制作方法
【主权项】:
一种植物补光发光二极管的制作方法,包括以下步骤:步骤1:在衬底的表面用激光器打四个通孔;步骤2:在打有通孔的衬底的正反两面蒸度二氧化硅膜保护膜;步骤3:将蒸度二氧化硅膜保护膜的衬底放入浓硫酸和浓磷酸混合液中腐蚀,清洗腐蚀掉通孔侧壁激光烧蚀后的残余物;步骤4:清洗,去掉衬底表面的二氧化硅膜保护膜;步骤5:在衬底的一面依次生长N型掺杂层、多量子阱发光层、P型掺杂层和ITO层;步骤6:在ITO层上一侧及中间向下刻蚀,刻蚀深度达到N型掺杂层内,形成第一台面和第二台面,该第一台面的中心处有一通孔,该第二台面的中心处有一通孔;步骤7:在第一、第二台面的通孔的上面制作N型电极,该N型电极覆盖通孔;在第一、第二台面一侧的ITO层上的通孔上制作P型电极,该P型电极覆盖通孔;步骤8:在第一、第二台面另一侧的ITO层上的通孔的内壁制作绝缘层;步骤9:在衬底背面及四个通孔内蒸度铬金引导层,该铬金引导层与N型电极和P型电极接触;步骤10:在衬底背面旋转涂覆光刻胶并做出图形,腐蚀铬金引导层,使P型电极和N型电极隔离,形成两个独立的芯片;步骤11:用一丝网固定在其中的一个芯片表面,遮挡芯片;步骤12:在遮挡有丝网的表面,涂覆610mm‑720nm波长的荧光粉;步骤13:烘烤,烘烤时间为30分钟以上,温度为150度,完成制备。
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