[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201310476473.4 申请日: 2013-10-12
公开(公告)号: CN104576650A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: 李田生;谢振宇 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L29/786
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 张颖玲;孟桂超
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板以及在衬底基板上形成的栅极的图案、栅极绝缘层的图案、像素电极的图案、欧姆接触层的图案、有源层的图案、源漏电极的图案,其中,像素电极的图案位于栅极绝缘层的图案和欧姆接触层的图案之间。本发明同时还公开了上述阵列基板的制作方法和一种显示装置。采用本发明的技术方案,能够减少一次掩模工艺,从而能降低制造成本和提高产品良品率。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,包括衬底基板以及在衬底基板上形成的栅极的图案、栅极绝缘层的图案、像素电极的图案、欧姆接触层的图案、有源层的图案、源漏电极的图案,其特征在于,所述像素电极的图案位于栅极绝缘层的图案和欧姆接触层的图案之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司;,未经北京京东方光电科技有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310476473.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top