[发明专利]一种高硬度、高弹性模量TiSiN保护涂层的制备方法无效
申请号: | 201310476304.0 | 申请日: | 2013-10-12 |
公开(公告)号: | CN103510061A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 吴舢红;李伟;薛增辉 | 申请(专利权)人: | 萨姆森涂层纳米科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06 |
代理公司: | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人: | 王建国 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种高硬度、高弹性模量TiSiN保护涂层的制备方法,包括如下制备步骤:(1)基体清洗,然后进行离子清洗;(2)TiSiN层制备:将步骤(1)处理后的基体送到溅射室进行沉积,Ti-Si复合靶材由射频阴极控制,沉积1-2μm的TiSiN涂层。本发明所得TiSiN涂层不但具有高硬度34.4GPa,而且具有优良的抗高温氧化性和耐腐蚀能力,工艺简单、沉积速度快、成本低、结合强度高等特点,并且具有生产效率高、能耗低,对设备要求较低等优点,可作为高速、干式切削的刀具涂层和其他领域的保护涂层。 | ||
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【主权项】:
一种高硬度、高弹性模量TiSiN保护涂层的制备方法,其特征在于包括如下制备步骤:(1)基体清洗将经打磨镜面抛光处理后的基体在无水乙醇和丙酮中利用超声波清洗5~10min;然后进行离子清洗:将样品装好后装进进样室,抽真空后开Ar气,维持真空度在2‑4Pa,用中频对所述基体进行30min的离子轰击,功率为80‑100W;(2)TiSiN层制备将步骤(1)处理后的基体送到溅射室进行沉积,Ti‑Si复合靶材由射频阴极控制,真空室的本底真空度优于5×10‑3Pa,溅射气氛采用Ar和N2的混合气体,溅射功率为280‑400W,溅射时间为90‑140min,靶基距:5cm,沉积1‑2μm的TiSiN涂层。
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