[发明专利]一种2-巯基苯并噻唑金属化合物的合成方法无效
| 申请号： | 201310455655.3 | 申请日： | 2013-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN103510104A | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 许丹倩;王益锋;戴金贵;徐群辉;徐振元 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | C25B3/12 | 分类号： | C25B3/12 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 黄美娟;王晓普 |
| 地址： | 310014 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种如式（1）所示的2-巯基苯并噻唑金属化合物的合成方法，所述方法为：以金属M为牺牲阳极，以惰性材料为阴极，以溶有导电剂的溶剂为电解液，向电解液中加入2-巯基苯并噻唑，在电解槽内通直流电电解，搅拌下进行电解反应，在电解槽中生成沉淀，反应完全所得悬浊液经后处理制得如式（1）所示的2-巯基苯并噻唑金属化合物。本发明提供的2-巯基苯并噻唑金属化合物的合成方法工艺简单、基本无三废、产品纯度好、收率高，适合工业化应用。 |
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| 搜索关键词： | 一种 巯基 噻唑 金属 化合物 合成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种如式（1）所示的2-巯基苯并噻唑金属化合物的合成方法，其特征在于所述方法为：以金属M为牺牲阳极，以惰性材料为阴极，以溶有导电剂的溶剂为电解液，电解液中加入2-巯基苯并噻唑，在电解槽内通直流电，搅拌下进行电解反应，在电解槽中生成沉淀，反应完全后所得悬浊液经后处理制得如式（1）所示的2-巯基苯并噻唑金属化合物；所述的金属M为Zn、Cu、Ni、Mn、Fe、Sn或Al；![]()
式（1）中，M为Zn、Cu、Ni、Mn、Fe、Sn或Al，M为Zn、Cu、Ni、Mn、Fe或Sn时，n=2；M为Al时，n=3。
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