[发明专利]一种掩膜版及其制备方法

摘要

本发明公开了一种掩膜版及其制备方法，该掩膜版包括本体，还包括覆盖于本体的表面且能降低有机凝结物粘附力的包含疏油材料的膜层。与传统的掩膜版相比，本发明实施例提供的掩膜版，在掩膜版本体上覆盖了一层疏油材料，由于有机凝结物在该疏油材料的表面的接触角较大、粘附力较低，能有效降低有机凝结物粘附于掩膜版表面的可能性，从而减轻了在曝光过程中光刻胶中的有机溶剂等有机挥发物对掩膜版污染的问题。

主权项

一种掩膜版，包括本体，其特征在于，还包括：覆盖于所述本体的表面且能降低有机凝结物粘附力的包含疏油材料的膜层，所述膜层用于减轻所述掩膜板在曝光过程中光刻胶中的有机溶剂对所述掩膜版的污染；其中，所述疏油材料为全氟十二烷基三氯硅烷；所述掩膜版还包括：位于所述本体与所述膜层之间且能使所述全氟十二烷基三氯硅烷均匀分布的交联层，且所述本体的表面是采用刻蚀技术进行刻蚀处理后的；其中所述交联层的材料为硅酮纤维，所述硅酮纤维的直径为20nm‑60nm。