[发明专利]一种掩膜版及其制备方法有效
| 申请号： | 201310421535.1 | 申请日： | 2013-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN103472673B | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 孙志义;张然 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/48 | 分类号： | G03F1/48 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 及其 制备 方法 | ||
1.一种掩膜版，包括本体，其特征在于，还包括：
覆盖于所述本体的表面且能降低有机凝结物粘附力的包含疏油材料的膜层。
2.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述有机凝结物在所述膜层上的接触角大于150°。
3.如权利要求1或2所述的掩膜版，其特征在于，所述疏油材料位于所述膜层的表面。
4.如权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述疏油材料为含氟材料。
5.如权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述含氟材料为全氟十二烷基三氯硅烷。
6.如权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，还包括：位于所述本体与所述膜层之间且能使所述全氟十二烷基三氯硅烷均匀分布的交联层。
7.如权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，所述交联层的材料为硅酮纤维，所述硅酮纤维的直径为20nm-60nm。
8.如权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述含氟材料为氟化二氧化硅纳米粒子，所述氟化二氧化硅纳米粒子的直径为100nm-200nm。
9.一种掩膜版的制备方法，其特征在于，包括：
制备掩膜版的本体；
在所述掩膜版的本体上形成覆盖于所述本体表面且能降低有机凝结物粘附力的包含疏油材料的膜层。
10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述疏油材料为全氟十二烷基三氯硅烷；
所述在所述掩膜版的本体上形成覆盖于所述本体表面且能降低有机凝结物粘附力的包含疏油材料的膜层，具体包括：
在所述本体上形成覆盖所述本体表面的交联层，所述交联层能使将要形成于所述交联层表面上的全氟十二烷基三氯硅烷均匀分布；
在所述交联层上形成覆盖所述交联层表面的包含全氟十二烷基三氯硅烷的膜层。
11.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述疏油材料为氟化二氧化硅纳米粒子；
所述在所述掩膜版的本体上形成覆盖于所述本体表面且能降低有机凝结物粘附力的包含疏油材料的膜层，具体包括：
将所述氟化二氧化硅纳米粒子均匀地分散于有机溶液中；
将所述分散有氟化二氧化硅纳米粒子的有机溶液旋涂于所述本体的表面上。
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