[发明专利]金属纳米线膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201310363160.8 | 申请日： | 2013-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN103632752A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李龙勋;宋甲得;河丞镐 | 申请（专利权）人： | E和H有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/044;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人： | 尚志峰;汪海屏 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 发明提供了一种金属纳米线膜，包括：透明衬底；第一涂层，形成在透明衬底上，并且包括多个金属纳米线；以及第二涂层，涂覆在第一涂层上，以覆盖从第一涂层突出的所有金属纳米线。该膜配置有在其上执行部分蚀刻的结构。因此第一涂层的一部分保留在蚀刻图样区中，以及金属纳米线从蚀刻图样区中的第一涂层的保留部分中被去除。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 纳米 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种金属纳米线膜，包括：透明衬底；第一涂层，形成在所述透明衬底上，并且包括多个金属纳米线；以及第二涂层，涂覆在所述第一涂层上，以覆盖从所述第一涂层突出的所有所述金属纳米线，其中，所述第一涂层和所述第二涂层被图样化，以及所述第一涂层的一部分保留在蚀刻图样区中，其中所述纳米线从所述蚀刻图样区中的所述第一涂层的保留部分中被去除。
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