[发明专利]金属纳米线膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201310363160.8 | 申请日： | 2013-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN103632752A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李龙勋;宋甲得;河丞镐 | 申请（专利权）人： | E和H有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/044;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 | 代理人： | 尚志峰;汪海屏 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属 纳米 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种金属纳米线膜，包括：
透明衬底；
第一涂层，形成在所述透明衬底上，并且包括多个金属纳米线；以及
第二涂层，涂覆在所述第一涂层上，以覆盖从所述第一涂层突出的所有所述金属纳米线，
其中，所述第一涂层和所述第二涂层被图样化，以及所述第一涂层的一部分保留在蚀刻图样区中，其中所述纳米线从所述蚀刻图样区中的所述第一涂层的保留部分中被去除。
2.根据权利要求1所述的金属纳米线膜，
其中，在所述蚀刻图样区中的所述第一涂层的所述保留部分的厚度为所述第一涂层和所述第二涂层之和的总厚度的1/5或更多至4/5或更少。
3.一种制造金属纳米线膜的方法，包括：
在透明衬底上形成包括多个金属纳米线的第一涂层；
形成涂覆的第二涂层，以覆盖从所述第一涂层的表面突出的所有所述金属纳米线；以及
执行部分蚀刻，从而所述第一涂层和所述第二涂层通过在所述第二涂层上形成预定图样形成掩模和湿蚀刻来被图样化，其中所述第一涂层的一部分保留在被蚀刻的图样区中，以及所述金属纳米线被从所述蚀刻图样区中的所述第一涂层的保留部分中去除。
4.根据权利要求3所述的方法，
其中，在所述蚀刻图样区中的所述第一涂层的保留部分的厚度为所述第一涂层和所述第二涂层之和的总厚度的1/5或更多至4/5或更少。
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