[发明专利]ITO 粉末及其制造方法、以及分散液和ITO 膜的制造方法有效
| 申请号： | 201310283707.3 | 申请日： | 2013-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN103693677B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 米泽岳洋;山崎和彦;竹之下爱 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C01G19/00 | 分类号： | C01G19/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种ITO粉末及其制造方法、以及分散液和ITO膜的制造方法，所述ITO粉末不需要粉末状态下的后处理而在ITO粉末的压坯中获得低于以往的体积电阻率。本发明的ITO粉末，在附属于X射线衍射装置的试料座中填充试料即ITO粉末，并以2θ=15～90deg的范围照射X射线，并由所获得的衍射线来进行晶格常数、微晶尺寸、晶格应变的精密化的结果，所获得的晶格应变在0.2～0.8的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | ito 粉末 及其 制造 方法 以及 分散 | ||
【主权项】：
一种ITO粉末，其特征在于，在附属于X射线衍射装置的试料座中填充试料即ITO粉末，并以2θ=15～90deg的范围照射X射线，并由所获得的衍射线来进行晶格常数、微晶尺寸、晶格应变的精密化的结果，所获得的晶格应变在0.2～0.8的范围内。
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