[发明专利]曝光系统与曝光方法有效

专利信息
申请号: 201310241397.9 申请日: 2013-06-18
公开(公告)号: CN104238272B 公开(公告)日: 2017-02-01
发明(设计)人: 高克毅;陈赞仁;高振宽;李建兴 申请(专利权)人: 群创光电股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02F1/1333
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 董惠石
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种曝光系统与曝光方法,该曝光系统能够对组立面板进行曝光,组立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶层,液晶层夹置于第一基板与第二基板之间,该曝光系统包括一传输装置、二移动平台以及一光源模组。该二移动平台设置于传输装置上,并对应承载组立面板。光源模组具有至少一发光元件。传输装置移动该等移动平台的至少其中之一或移动光源模组,以使发光元件所发出之光线照射于组立面板上。本发明还公开了一种曝光方法。该曝光系统能够降低曝光方法的工作时间,进而降低设备设置成本而提升产品的竞争力。
搜索关键词: 曝光 系统 方法
【主权项】:
一种曝光系统,其特征在于,该曝光系统能够对一组立面板进行曝光,且在曝光动作前对该组立面板进行扎针及通电工作,其中该组立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶层,该液晶层夹置于该第一基板与该第二基板之间,该曝光系统包括:一传输装置;二移动平台,设置于该传输装置上,并对应承载该组立面板;以及一光源模组,具有至少一发光元件,该传输装置移动该二移动平台的至少其中之一,该发光元件所发出的光线照射于该组立面板上,且该传输装置位于相对该光源模组的同一侧具有容纳两个组立面板的空间。
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