[发明专利]曝光系统与曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光系统与曝光方法。

背景技术

随着科技的进步，平面显示装置已经广泛的被运用在各种领域，尤其是液晶显示装置，因具有体型轻薄、低功率消耗及无辐射等优越特性，已经渐渐地取代传统阴极射线管显示装置，而应用至许多种类的电子产品中，例如行动电话、可携式多媒体装置、笔记型电脑、液晶电视及液晶萤幕等等。

目前液晶显示装置的制造业者在提升薄膜电晶体液晶显示装置(TFT LCD)的广视角技术(Multi-domain Vertical Alignment，MVA)上，聚合物稳定配向(或称聚合物持续配向，Polymer Sustained Alignment，PSA)是一种用以提升开口率与对比等光学性能的成熟及量产的技术。其中，PSA技术是在面板的液晶滴入(One DropFilling，ODF)制造工艺中，混合一光反应性单体(monomer)后通电，并进行紫外光曝光照射，使液晶分子内的光反应性单体硬化，并使硬化后的单体依据薄膜电晶体基板上的一图案化透明导电层的图案进行排列，以透过此硬化单体来达到使液晶配向的目的。

其中，PSA技术所使用的曝光系统为曝光设备成本中最高的部分，然而，目前业界所使用的曝光系统的设计都是一组曝光机搭配一个面板平台(stage)来进行曝光作业(平台用以承载组立面板，assembly cell)，因此，曝光的工站时间(Tact time)都浪费在组立面板的非真正曝光时间上，例如浪费在面板的交换、对位或曝光前扎针及通电程序等，造成曝光机无法被充分、有效地利用，导致为了增加产能时，需投资更多的曝光系统及厂房设置空间，使得生产线建置成本相对增加很多，造成液晶显示装置的生产成本提高而使产品的竞争力下降。

因此，如何提供一种曝光系统及曝光方法，可有效利用曝光系统而降低曝光的工站时间，以降低设备设置成本而提升产品的竞争力，己成为重要课题之一。

发明内容

为了解决前述现有技术中上述难题，本发明提供了一种可有效利用曝光系统而降低曝光制造工艺的工站时间，以降低设备设置成本而提升产品的竞争力的曝光系统与曝光方法。

本发明为解决其技术问题采用的技术方案是：一种曝光系统，是对组立面板进行的曝光制造工艺，组立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶层，液晶层夹置于第一基板与第二基板之间，曝光系统包括一传输装置、二移动平台以及一光源模组。该二移动平台设置于传输装置上，并对应承载组立面板。光源模组具有至少一发光元件。传输装置移动该二移动平台的至少其中之一或移动光源模组，以使发光元件所发出的光线照射于组立面板上。

为达上述目的，依据本发明的一种曝光方法，其中组立面板与一曝光系统配合，组立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶层，液晶层夹置于第一基板与第二基板之间，曝光系统包含一传输装置、二移动平台及一光源模组，该等移动平台设置于传输装置上，并对应承载组立面板，光源模组具有至少一发光元件，曝光制造工艺包括：透过传输装置移动该等移动平台的至少其中之一或移动光源模组；以及透过发光元件发出光线照射于组立面板上。

在一实施例中，组立面板更具有一光反应单体材料，第一基板及第二基板分别具有一高分子薄膜，光反应单体材料混合于液晶层或该等高分子薄膜内。

在一实施例中，组立面板更具有一密封材料，密封材料与第一基板及第二基板形成一密闭空间，液晶层设置于密闭空间内。

在一实施例中，该二移动平台分别对应承载一第一组立面板及一第二组立面板，在进行第一组立面板的曝光制造工艺时，第二组立面板进行面板交换、对位、扎针及通电等工作，在进行第二显示组立的曝光制造工艺时，第一组立面板进行面板交换、对位、扎针及通电等工作。

在一实施例中，该光源模组透过一固定方式、或一扫描方式、或一摇摆方式对该等组立面板进行曝光制造工艺。

本发明的有益效果是：承上所述，因依据本发明的曝光系统及曝光方法中，是对组立面板进行的曝光制造工艺，其中组立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶层，液晶层夹置于第一基板与第二基板之间。另外，二移动平台对应承载组立面板。其中，传输装置可移动该等移动平台的至少其中之一或移动光源模组，以使光源模组所发出的光线照射于组立面板上而完成曝光制造工艺。藉此，由于在本发明的曝光系统及曝光制造工艺中，曝光机并没有浪费时间在等待组立面板的交换、对位或曝光前扎针及通电等准备工作上，因此，可有效利用曝光系统的光源模组而降低曝光制造工艺的工站时间，进而降低设备设置成本而提升产品的竞争力。