[发明专利]曝光系统与曝光方法

权利要求书

1.一种曝光系统，其特征在于，该曝光系统能够对一组立面板进行曝光，该组立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶层，该液晶层夹置于该第一基板与该第二基板之间，该曝光系统包括：

一传输装置；

二移动平台，设置于该传输装置上，并对应承载该组立面板；以及

一光源模组，具有至少一发光元件，

该传输装置移动该二移动平台的至少其中之一或移动该光源模组，该发光元件所发出的光线照射于该组立面板上。

2.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，该组立面板还具有一光反应单体材料，该第一基板及该第二基板分别具有一高分子薄膜，该光反应单体材料混合于该液晶层或该高分子薄膜内。

3.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，该组立面板还具有一密封材料，该密封材料与该第一基板及该第二基板形成一密闭空间，该液晶层设置于该密闭空间内。

4.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，该二移动平台分别对应承载一第一组立面板及一第二组立面板，在进行该第一组立面板的曝光时，该第二组立面板进行面板交换、对位、扎针及通电工作，在进行该第二组立面板的曝光时，该第一组立面板进行面板交换、对位、扎针及通电工作。

5.如权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，该光源模组透过一固定方式、或一扫描方式、或一摇摆方式对该组立面板进行曝光。

6.一种曝光方法，其特征在于，一组立面板与一曝光系统配合，该组立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶层，该液晶层夹置于该第一基板与该第二基板之间，该曝光系统包含一传输装置、二移动平台及一光源模组，该二移动平台设置于该传输装置上，并对应承载该组立面板，该光源模组具有至少一发光元件，该曝光方法包括：

透过该传输装置移动该二移动平台的至少其中之一或移动该光源模组；以及

透过该发光元件发出光线照射于该组立面板上。

7.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，该组立面板还具有一光反应单体材料，该第一基板及该第二基板分别具有一高分子薄膜，该光反应单体材料混合于该液晶层或该高分子薄膜内。

8.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，该组立面板还具有一密封材料，该密封材料与该第一基板及该第二基板形成一密闭空间，该液晶层设置于该密闭空间内。

9.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，该二移动平台分别对应承载一第一组立面板及一第二组立面板，在进行该第一组立面板的曝光时，该第二组立面板进行面板交换、对位、扎针及通电工作，在进行该第二组立面板的曝光时，该第一组立面板进行面板交换、对位、扎针及通电工作。

10.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，该光源模组透过一固定方式、或一扫描方式、或一摇摆方式对该组立面板进行曝光。