[发明专利]一种半导体行业研磨废水的处理方法有效
| 申请号： | 201310241349.X | 申请日： | 2013-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN104230041A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | 曾云 | 申请（专利权）人： | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100871 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及水处理技术，公开了一种半导体行业中研磨废水的处理方法，用于解决现有技术中在处理研磨废水时存在的电能的浪费，处理成本较高的问题。该方法为：先在SS浓度大于50mg/l的研磨废水中添加质量浓度为3%-20%的碱溶液，将PH值调整至10.5-11，再添加质量浓度为3%-10%的高分子混凝剂将电导率调节为150μs/cm-300μs/cm，及质量浓度为3%-10%的无机盐类混凝剂，将PH值调整至7-8.5；最后，将研磨废水进行沉降分离，得到SS浓度小于50mg/l的废水，这样，由于上述方法不需要用到滤网，因此，降低了电能消耗，及处理成本，同时，还提高了处理效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 行业 研磨 废水 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种半导体行业中研磨废水的处理方法，其特征在于，包括：在悬浮物浓度大于50mg/l的研磨废水中添加质量浓度为3%‑20%的碱溶液，将所述研磨废水的氢离子浓度指数PH值调整至10.5‑11；在PH值为10.5‑11的研磨废水中添加质量浓度为3%‑10%的高分子混凝剂将研磨废水的电导率调节为150μs/cm‑300μs/cm，及质量浓度为3%‑10%的无机盐类混凝剂，将研磨废水的PH值调整至7‑8.5；将PH值为7‑8.5的研磨废水进行沉降分离，得到悬浮物浓度小于50mg/l的废水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司，未经北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310241349.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
