[发明专利]一种半导体行业研磨废水的处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及水处理技术，特别涉及一种半导体行业研磨废水的处理方法。

背景技术

半导体器件行业是目前及将来电子信息产业的重要组成部分，随着半导体产业的兴起，国际市场对半导体的产品的需要越来越多，晶圆制造为半导体制作过程中的一项重要工艺，在晶圆制造中，随着制造技术的升级、导线与栅极尺寸的缩小，光刻技术对晶圆表面的平坦程度的要求越来越高，CMP（Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光法）工艺属于芯片制造厂的基本工艺，用于将晶圆表面平坦化。在晶圆研磨后的过程中使用超纯水对其进行清洗时会产生大量的研磨废水，其中，研磨废水中含有的SS（Suspended Solids，悬浮物）远远超出国标中规定的SS浓度小于50mg/l的排放标准，大量SS会对环境造成严重污染。

现有技术中，为了避免产生的研磨废水中含有的超标的SS污染环境，使得排放的研磨废水能够符合政府所制定的废弃物排放标准，主要采用超滤法去除研磨废水中含有的SS。

超滤法为物理方法，采用滤网去除研磨废水中包含的SS，该方法虽然可以达到降低研磨废水中的SS浓度的效果，但是，一方面，由于滤网容易被SS堵塞，需要利用电能定期对滤网进行清洁，因此，对电能的消耗较大；另一方面，由于研磨颗粒硬度较高，很容易将滤网造成破损，进而造成废水处理系统的处理效率较低，并且，需要定期对滤网进行维护，因此，提高了废水处理系统的成本。

发明内容

本发明实施例提供一种半导体行业中研磨废水的处理方法，用以解决现有技术中存在的电能消耗较大、处理效率较低及处理成本较高的问题。

一种半导体行业中研磨废水的处理方法，包括：

在悬浮物浓度大于50mg/l的研磨废水中添加质量浓度为3%-20%的碱溶液，将所述研磨废水的氢离子浓度指数PH值调整至10.5-11；

在PH值为10.5-11的研磨废水中添加质量浓度为3%-10%的高分子混凝剂将研磨废水的电导率调节为150μs/cm-300μs/cm，及质量浓度为3%-10%的无机盐类混凝剂，将研磨废水的PH值调整至7-8.5；

将PH值为7-8.5的研磨废水进行沉降分离，得到悬浮物浓度小于50mg/l的废水。

本发明实施例中，先在悬浮物浓度大于50mg/l的研磨废水中添加质量浓度为3%-20%的碱溶液，将研磨废水的PH（Hydrogen Ion Concentration，氢离子浓度指数）值调整至10.5-11，再在PH值为10.5-11的研磨废水中添加质量浓度为3%-10%的高分子混凝剂将研磨废水的电导率调节为150μs/cm-300μs/cm，及质量浓度为3%-10%的无机盐类混凝剂，将研磨废水的PH值调整至7-8.5；最后，将PH值为7-8.5的研磨废水进行沉降分离，得到悬浮物浓度小于50mg/l的废水，这样，由于上述方法不需要用到滤网，因此，避免了由于定期清理滤网而造成的电能消耗，及对滤网定期维护所使用的成本，同时，也避免了滤网破损对处理效率的影响，因此，还达到了提高处理效率的目的。

附图说明

图1为本发明实施例中半导体行业中研磨废水处理的详细流程图；

图2A为本发明实施例中的比色卡示意图；

图2B为本发明实施例中PH试纸测试PH值的示意图；

图3为本发明实施例中半导体行业中研磨废水处理的示意图。

具体实施方式

为了降低污水处理系统对电能的消耗、处理成本，提高处理效率，本发明实施例中，先在悬浮物浓度大于50mg/l的研磨废水中添加质量浓度为3%-20%的碱溶液，将研磨废水的PH值调整至10.5-11，再在PH值为10.5-11的研磨废水中添加质量浓度为3%-10%的高分子混凝剂将研磨废水的电导率调节为150μs/cm-300μs/cm，及质量浓度为3%-10%的无机盐类混凝剂，将研磨废水的PH值调整至7-8.5；最后，将PH值为7-8.5的研磨废水进行沉降分离，得到悬浮物浓度小于50mg/l的废水，这样，由于上述方法不需要用到滤网，因此，避免了由于定期清理滤网而造成的电能消耗，及对滤网定期维护所使用的成本，同时，也避免了滤网破损对处理效率的影响，因此，还达到了提高处理效率的目的。

下面结合附图对本发明优选的实施方式进行详细说明。

参阅图1所示，本发明实施例中，半导体行业中研磨废水处理的详细流程如下：