[发明专利]图案生成方法无效
| 申请号： | 201310226984.0 | 申请日： | 2013-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN103488043A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 三上晃司;荒井祯;石井弘之 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 魏小薇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种图案生成方法，用于使用计算机来生成用于生成掩模的图案的单元的图案，包括：获得单元的图案的数据；通过重复改变当具有单元的图案的掩模受照射以将单元的图案的图像投影到基板上以使基板曝光时的曝光条件的参数值、以及单元的图案的参数值来计算单元的图案的图像以获得图像的评价值；以及确定当评价值满足预定的评价标准时的单元的图案的参数值。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 生成 方法 | ||
【主权项】：
一种图案生成方法，用于使用计算机来生成用于生成掩模的图案的单元的图案，所述方法包括：获得单元的图案的数据；通过重复改变当具有单元的图案的掩模被照射以将单元的图案的图像投影到基板上以使基板曝光时的曝光条件的参数值、以及单元的图案的参数值，来计算单元的图案的图像以获得图像的评价值；以及确定当评价值满足预定的评价标准时的单元的图案的参数值。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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