[发明专利]图案生成方法

权利要求书

1.一种图案生成方法，用于使用计算机来生成用于生成掩模的图案的单元的图案，所述方法包括：

获得单元的图案的数据；

通过重复改变当具有单元的图案的掩模被照射以将单元的图案的图像投影到基板上以使基板曝光时的曝光条件的参数值、以及单元的图案的参数值，来计算单元的图案的图像以获得图像的评价值；以及

确定当评价值满足预定的评价标准时的单元的图案的参数值。

2.根据权利要求1所述的图案生成方法，其中，确定当评价值满足预定的评价标准时的曝光条件的参数值和单元的图案的参数值。

3.根据权利要求1所述的图案生成方法，其中，单元的图案包括矩形的图案元件。

4.根据权利要求3所述的图案生成方法，其中，单元的图案的参数包括该图案元件的线宽度和偏移量。

5.根据权利要求1所述的图案生成方法，其中，获得多个单元的图案的数据，

计算所有多个单元的图像的所获得的评价值，以及

确定当评价值满足预定的评价标准时的曝光条件的参数值和单元的图案的参数值。

6.根据权利要求1所述的图案生成方法，其中，使用多个评价指标来计算图像的评价值，以及

确定当评价值满足用于评价指标中的每一个评价指标的预定的评价标准时的单元的图案的参数值。

7.根据权利要求6所述的图案生成方法，其中，针对评价指标中的每一个评价指标所确定的单元的图案的参数值彼此不同。

8.根据权利要求1所述的图案生成方法，其中，获得多个单元的图案的数据，以及

计算所述多个单元的图案的图像，其中，所述多个单元彼此分隔开不互相施加光学邻近效应的距离。

9.根据权利要求1所述的图案生成方法，其中，获得多个单元的图案的数据，评价值包括通过针对多个单元把多个单元的图案的图像的评价值相加所获得的值以及包括在多个单元的图案的图像的评价值当中的最小值和最大值中的至少一个。

10.根据权利要求1所述的图案生成方法，还包括：

在单元库中存储当评价值满足预定的评价标准时的单元的图案。

11.一种掩模图案生成方法，包括：

从单元库获得通过根据权利要求5至10中任一项所述的图案生成方法生成的多个单元的图案，或获得用户输入的多个单元的图案以生成用以切分或连接线图案和空间图案的掩模图案。

12.一种掩模图案生成方法，包括：

当通过从存储通过根据权利要求5所述的图案生成方法生成的多个单元的图案的单元库中选择单元来生成用以切分或连接线图案和空间图案的掩模图案时，

通过重复改变包括从单元库中选择的单元的图案的掩模图案的参数值，使用所确定的曝光条件的参数值来计算所选择的单元的图案的图像以获得图像的评价值；以及

确定当评价值满足预定的评价标准时的掩模图案的参数值。

13.一种掩模图案生成方法，包括：

当通过从存储有通过根据权利要求5所述的图案生成方法生成的多个单元的图案的单元库中选择单元来生成用以切分或连接线图案和空间图案的掩模图案时，

通过重复改变包括从单元库中选择的单元的图案的掩模图案的参数值、以及在与曝光条件的所确定的参数值相差预定量的范围中的曝光条件的参数值来计算所选择的单元的图案的图像，以获得图像的评价值；以及

确定当评价值满足预定的评价标准时的掩模图案的参数值。

14.一种信息处理装置，被配置为执行根据权利要求1至10中任一项所述的图案生成方法。

15.一种曝光装置，被配置为把掩模上形成的图案曝光到基板上，掩模的图案是通过用于使用计算机来生成用于生成掩模的图案的单元的图案的图案生成方法生成的，所述方法包括：

获得单元的图案的数据；

通过重复改变当包括单元的图案的掩模被照射以将单元的图案的图像投影到基板上以使基板曝光时的曝光条件的参数值、以及单元的图案的参数值，来计算单元的图案的图像以获得图像的评价值；以及

确定当评价值满足预定的评价标准时的单元的图案的参数值。

16.一种器件制造方法，包括：使用曝光装置来对基板曝光，并且使经曝光的基板显影，其中，曝光装置把在掩模上所形成的图案曝光到基板上，掩模的图案是通过用于使用计算机生成用于生成掩模的图案的单元的图案的图案生成方法生成的，所述图案生成方法包括：

获得单元的图案的数据；

通过重复改变当包括单元的图案的掩模被照射以把单元的图案的图像投影到基板上以使基板曝光时的曝光条件的参数值、以及单元的图案的参数值，来计算单元的图案的图像以获得图像的评价值；以及

确定当评价值满足预定的评价标准时的单元的图案的参数值。