[发明专利]具有对流压缩机的热扩散室无效
申请号: | 201310183352.0 | 申请日: | 2013-05-17 |
公开(公告)号: | CN104051566A | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | M.R.埃里克森;H.J.普尔;N.贾姆施迪;A.W.卡斯特三世;A.L.丁古斯 | 申请(专利权)人: | 普尔·文图拉公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李晨;杨炯 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及具有对流压缩机的热扩散室,优选地,公开了支撑容纳室的框架(处理室限制在容纳室内)、以及与密封处理室的外部流体连通的至少一个流体入口结构,该流体入口结构包括至少一个流量调节结构以控制来自流体源且在处理室的外部周围的流体流量,以及与处理室的内部流体连通的开环流体对流系统,其中,该流体对流系统包括延伸到处理室中的旋转压缩机组件。 | ||
搜索关键词: | 具有 对流 压缩机 扩散 | ||
【主权项】:
一种装置,包括:框架,所述框架支撑容纳室;处理室,所述处理室被限制在所述容纳室内;热源模块,所述热源模块设置在所述容纳室和所述处理室之间;热调节腔,所述热调节腔形成于所述热源模块和所述处理室之间;与所述热调节腔流体连通的至少一个流体入口结构,其中,所述流体入口结构提供阀,所述阀控制从所述热调节腔经过所述流体入口结构流动至所述热调节腔外部的环境的流体流量,并且其中,所述流体入口结构还包括流量调节结构,所述流量调节结构与所述阀相互作用以控制从在所述热调节腔外部的环境经过所述阀流入所述热调节腔的流体流量;以及与所述处理室的内部流体连通的开环流体对流系统,其中,所述流体对流系统包括延伸到所述处理室中的旋转压缩机组件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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