[发明专利]一种以含氟基团修饰的吡啶环为中心的达比加群酯类似物及其合成方法无效

专利信息
申请号: 201310180352.5 申请日: 2013-05-16
公开(公告)号: CN103242296A 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 任玉杰;陈海峰;王庆伟 申请(专利权)人: 上海应用技术学院
主分类号: C07D401/12 分类号: C07D401/12;A61P7/02
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200235 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种以含氟基团修饰的吡啶环为中心的达比加群酯类似物及其合成方法,即以含氟基团的氨基吡啶化合物为起始原料,经过系列反应最终合成本发明的一类含氟基团修饰的达比加群酯类似物。本发明的一种以含氟基团修饰的吡啶环为中心的达比加群酯类似物合成方法具有操作简单,所用试剂价廉易得、合成成本相对较低、合成过程中危险性降低,并且各合成步骤产率较高,合成时间短等优点。
搜索关键词: 一种 基团 修饰 吡啶 中心 加群酯 类似物 及其 合成 方法
【主权项】:
一种以含氟基团修饰的吡啶环为中心的达比加群酯类似物,其特征在于其结构式如下: 其中R1为CF3‑、CF3CH2‑、CF3CH2O‑、CF3O‑、F‑或CF3CH2OOC‑;R2为C1‑C20的烷基或含氟烷基。
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