[发明专利]透明导电膜层叠用膜、其制造方法及透明导电性膜有效
申请号: | 201310158896.1 | 申请日: | 2013-03-01 |
公开(公告)号: | CN103302913B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 荒添铁也;大类知生;所司悟 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B33/00;B32B37/12;B32B38/16 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 张平元 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种透明导电膜层叠用膜,其包含透明基体材料、(A)低折射率层和(B)高折射率层,其特征在于,在上述透明基体材料的至少一面层叠上述(A)低折射率层,在上述(A)低折射率层上进一步层叠上述(B)高折射率层,上述(B)高折射率层的折射率比上述(A)低折射率层的折射率高0.2以上。根据本发明的透明导电膜层叠用膜,提供在可见光的短波长区域的透射率高、透明导电膜的层叠部分不明显的触摸面板用透明导电性膜,特别是用于静电容量方式触摸面板的透明导电性膜及用于提供上述透明导电性膜的透明导电膜层叠用膜。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电 层叠 制造 方法 导电性 | ||
【主权项】:
一种透明导电膜层叠用膜,其包含透明基体材料、(A)低折射率层和(B)高折射率层,其中,在所述透明基体材料的至少一面层叠所述(A)低折射率层,在所述(A)低折射率层上进一步层叠所述(B)高折射率层,且所述(A)低折射率层直接层叠在所述透明基体材料上,所述(B)高折射率层直接层叠在所述(A)低折射率层上,并且在所述(B)高折射率层上层叠有(C)透明导电膜,所述(B)高折射率层的折射率比所述(A)低折射率层的折射率高0.2以上,所述(A)低折射率层是活性能量射线固化型化合物的固化物,所述(B)高折射率层是由混合活性能量射线固化型化合物和金属氧化物而成的固化物形成的层,所述(A)低折射率层的膜厚为10nm以上且小于150nm。
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