[发明专利]透明导电膜层叠用膜、其制造方法及透明导电性膜有效
| 申请号： | 201310158896.1 | 申请日： | 2013-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN103302913B | 公开（公告）日： | 2017-04-12 |
| 发明（设计）人： | 荒添铁也;大类知生;所司悟 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;B32B33/00;B32B37/12;B32B38/16 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透明 导电 层叠 制造 方法 导电性 | ||
【权利要求书】：
1.一种透明导电膜层叠用膜，其包含透明基体材料、(A)低折射率层和(B)高折射率层，其中，
在所述透明基体材料的至少一面层叠所述(A)低折射率层，在所述(A)低折射率层上进一步层叠所述(B)高折射率层，
所述(B)高折射率层的折射率比所述(A)低折射率层的折射率高0.2以上。
2.如权利要求1所述的透明导电膜层叠用膜，其中，所述(A)低折射率层的折射率为1.30以上且小于1.60，所述(A)低折射率层的膜厚为10nm以上且小于150nm，且所述(B)高折射率层的折射率为1.60以上且小于2.00，所述(B)高折射率层的膜厚为30nm以上且小于130nm。
3.一种透明导电性膜，其在权利要求1或2所述的透明导电膜层叠用膜的(B)高折射率层上层叠有(C)透明导电膜。
4.权利要求1或2所述的透明导电膜层叠用膜的制造方法，其具有：(a)在透明基体材料的至少一面涂布低折射率层用涂布剂并进行干燥，然后对所述低折射率层用涂布剂照射活性能量射线使之固化，从而形成(A)低折射率层的工序；(b)在所述(a)工序中形成的(A)低折射率层上涂布高折射率层用涂布剂并进行干燥，然后对所述高折射率层用涂布剂照射活性能量射线使之固化，从而形成(B)高折射率层的工序。
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