[发明专利]反应腔室

摘要

本发明涉及一种反应腔室，所述反应腔室包括反应室；托盘，设置于所述反应室内；喷淋头，设置于所述反应室内，并位于所述托盘的上方；所述喷淋头与所述托盘上表面之间的距离为15mm～100mm，所述喷淋头向所述托盘喷射反应气体以在所述喷淋头与所述托盘上表面之间形成气流，在所述气流周围设置气流调整部件。所述反应腔室增加了所述喷淋头与所述托盘上表面之间的距离，避免反应气体在所述喷淋头表面结合而形成颗粒物质，从而提高反应腔室内工艺反应良率；并且所述气流调整部件可以控制所述气流以垂直或倾斜方向为所述托盘供气，使所述喷淋头与所述托盘上表面之间的气流分布均匀，提高反应气体的利用率。

主权项

一种反应腔室，其特征在于：包括：反应室；托盘，设置于所述反应室内，所述托盘的上表面用于放置衬底；喷淋头，设置于所述反应室内，并位于所述托盘的上方；所述喷淋头与所述托盘上表面之间的距离为15mm～100mm，所述喷淋头向所述托盘喷射反应气体以在所述喷淋头与所述托盘上表面之间形成气流，在所述气流周围设置气流调整部件，以控制所述气流为所述托盘供气。